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1. (WO2013062133) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, MOTIF DE RÉSERVE MULTICOUCHE, FILM MULTICOUCHE POUR DÉVELOPPEMENT À L'AIDE D'UN SOLVANT ORGANIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/062133    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/078264
Date de publication : 02.05.2013 Date de dépôt international : 25.10.2012
CIB :
G03F 7/095 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP)
Inventeurs : KATO, Keita; (JP).
SHIRAKAWA, Michihiro; (JP).
ODANI, Tadahiro; (JP).
NAKAMURA, Atsushi; (JP).
TAKAHASHI, Hidenori; (JP).
IWATO, Kaoru; (JP)
Mandataire : TAKAMATSU, Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-236456 27.10.2011 JP
Titre (EN) PATTERN FORMING METHOD, MULTI-LAYERED RESIST PATTERN, MULTI-LAYERED FILM FOR ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, MOTIF DE RÉSERVE MULTICOUCHE, FILM MULTICOUCHE POUR DÉVELOPPEMENT À L'AIDE D'UN SOLVANT ORGANIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A pattern forming method contains: (i) a step of forming a bottom anti-reflective coating on a substrate by using a first resin composition (I), (ii) a step of forming a resist film on the bottom anti-reflective coating by using a second resin composition (II), (iii) a step of exposing a multi-layered film having the bottom anti-reflective coating and the resist film, and (iv) a step of developing the bottom anti-reflective coating and the resist film in the exposed multi-layered film by using an organic solvent-containing developer to form a negative pattern.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation de motif comprenant les étapes consistant : (i) à former un revêtement anti-réfléchissant inférieur sur un substrat par utilisation d'une première composition de résine (I), (ii) à former un film de réserve sur le revêtement anti-réfléchissant inférieur par utilisation d'une seconde composition de résine (II), (iii) à exposer un film multicouche comprenant le revêtement anti-réfléchissant inférieur et le film de réserve, et (iv) à développer le revêtement anti-réfléchissant inférieur et le film de réserve dans le film multicouche exposé par utilisation d'un développeur contenant un solvant organique afin de former un motif négatif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)