WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013061659) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/061659    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/068313
Date de publication : 02.05.2013 Date de dépôt international : 19.07.2012
CIB :
H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
YASUFUKU, Kiyoshi; (US Seulement).
SAKAGAMI, Hidekazu; (US Seulement).
KOJIMA, Hiromutsu; (US Seulement)
Inventeurs : YASUFUKU, Kiyoshi; .
SAKAGAMI, Hidekazu; .
KOJIMA, Hiromutsu;
Mandataire : Fukami Patent Office, p.c.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-237413 28.10.2011 JP
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 気相成長装置
Abrégé : front page image
(EN)This vapor deposition device is equipped with: a susceptor (120) that has multiple areas on the top surface and on which a substrate to be treated (10) is mounted; and a gas supply unit (130) that faces the susceptor (120) and respectively supplies multiple material gases to the multiple areas. In addition, the vapor deposition device is equipped with: multiple gas-branching mechanisms for branching the multiple material gases in the same number as that of the multiple areas according to predetermined branching ratios, and for introducing the branched material gases to the gas supply unit (130) according to predetermined flow rates; multiple mixing pipes for mixing multiple predetermined material gases among the multiple material gases, said mixing pipes being respectively connected to the multiple gas-branching mechanisms; and a control unit (190) for controlling the multiple gas-branching mechanisms. The control unit (190) sets the respective predetermined branching ratios for the multiple gas-branching mechanisms, thereby regulating the flow rates of the multiple material gases to be respectively supplied to the aforementioned multiple areas.
(FR)L'invention concerne un dispositif de dépôt en phase vapeur, comprenant : un suscepteur (120) qui offre de multiples zones sur sa surface supérieure et sur lequel est monté un substrat à traiter (10) ; et une unité de fourniture de gaz (130) qui fait face au suscepteur (120) et qui fournit respectivement de multiples matériaux gazeux aux multiples zones. En outre, le dispositif de dépôt en phase vapeur comprend : de multiples mécanismes de branchement de gaz destinés à brancher les multiples matériaux gazeux dans le même nombre que celui des zones multiples, en fonction de rapports de branchement prédéterminés et à injecter les matériaux gazeux branchés à l'unité de fourniture de gaz (130) en fonction de débits prédéterminés ; de multiples tubes de mélange destinés à mélanger de multiples matériaux gazeux prédéterminés parmi les multiples matériaux gazeux, lesdits tubes de mélange étant connectés respectivement aux multiples mécanismes de branchement de gaz ; et une unité de commande (190) destinée à commander les multiples mécanismes de branchement de gaz. L'unité de commande (190) détermine les rapports de branchement prédéterminés respectifs pour les multiples mécanismes de branchement de gaz, ce qui régule les débits des multiples matériaux gazeux qui doivent être fournis respectivement aux zones multiples mentionnées ci-dessus.
(JA) 被処理基板(10)が載置され、上面に複数の領域を有するサセプタ(120)と、サセプタ(120)と対向し、上記複数の領域の各々に複数の材料ガスを供給するガス供給部(130)とを備える。また、複数の材料ガスを上記複数の領域の数だけ所定の分岐比率で分岐して所定の流量でガス供給部(130)に導入するための複数のガス分岐機構と、複数の材料ガスのうちの所定の複数の材料ガスを混合し、複数のガス分岐機構とそれぞれ接続された複数の混合配管と、複数のガス分岐機構を制御する制御部(190)とを備える。制御部(190)は、複数のガス分岐機構の各々の上記所定の分岐比率を設定することにより、上記複数の領域のそれぞれにおいて供給される複数の材料ガスの流量を調整する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)