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1. (WO2013061428) SUBSTRAT EN RÉSINE TRANSPARENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/061428    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/074703
Date de publication : 02.05.2013 Date de dépôt international : 26.10.2011
CIB :
B32B 27/30 (2006.01), B29C 45/14 (2006.01), B32B 27/18 (2006.01), B32B 27/40 (2006.01)
Déposants : FUKUVI CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 33-66, Sanjuhassha-cho, Fukui-shi, Fukui 9188585 (JP) (Tous Sauf US).
SAITO, Masahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ITAMOTO, Teppei [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SAITO, Masahiro; (JP).
ITAMOTO, Teppei; (JP)
Mandataire : ONO, Hisazumi; Nippon Shuzo bldg., 1-21, Nishi-shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) TRANSPARENT RESIN SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT EN RÉSINE TRANSPARENT
(JA) 透明樹脂基板
Abrégé : front page image
(EN)A transparent resin substrate which comprises a transparent base sheet that is formed of a thermoplastic resin and a hard coat film that is provided on one surface of the base sheet. This transparent resin substrate is characterized in that: the hard coat film is formed of a resin component that is obtained by curing urethane acrylates including a tri- or less functional urethane acrylate and a tetra- or more functional urethane acrylate, a silane coupling agent or a hydrolysis product thereof, a silica sol having a particle diameter of 5-500 nm and a refractive index within the range of 1.44-1.5 and a metal chelate compound; a low-refractive-index layer is formed on the hard coat film; the low-refractive-index layer is formed of a low-refractive-index hollow silica sol having a particle diameter of 10-150 nm and a refractive index of 1.44 or less, a silane coupling agent or a hydrolysis product thereof and a metal chelate compound; and the low-refractive-index layer contains the hollow silica sol in an amount of 10-50% by weight, while containing the hydrolysis product and the metal chelate compound at a weight ratio of from 60/99 to 40/1.
(FR)La présente invention concerne un substrat en résine transparent qui comprend une feuille de base transparente composée d'une résine thermoplastique et un film à couche dure qui est prévu sur une surface de la feuille de base. Ce substrat en résine transparent est caractérisé en ce que : le film à couche dure est composé d'un composant en résine qui est obtenu en faisant durcir des acrylates d'uréthane comprenant un triacrylate d'uréthane (ou à fonction inférieure) et un tétraacrylate d'uréthane (ou à fonction supérieure), un agent adhésif au silane ou un produit d'hydrolyse de celui-ci, un sol siliceux présentant un diamètre de particules allant de 5 à 500 nm et un indice de réfraction dans la plage allant de 1,44 à 1,5 et un composé de chélate métallique ; une couche à faible indice de réfraction est formée sur le film à couche dure ; la couche à faible indice de réfraction est composée d'un sol siliceux creux à faible indice de réfraction présentant un diamètre de particules allant de 10 à 150 nm et un indice de réfraction inférieur ou égal à 1,44, un agent adhésif au silane ou un produit d'hydrolyse de celui-ci et un composé de chélate métallique ; et la couche à faible indice de réfraction contient le sol siliceux creux en une quantité allant de 10 à 50 % en poids, tout en contenant le produit d'hydrolyse et le composé de chélate métallique à un rapport pondéral allant de 60/99 à 40/1.
(JA)透明な熱可塑樹脂製下地シートと、下地シートの一方の表面に設けられたハードコート膜とを有している透明樹脂基板において、ハードコート膜は、3官能以下のウレタンアクリレートと4官能以上のウレタンアクリレートとを含むウレタンアクリレートを硬化させてなる樹脂成分と、シランカップリング剤又はその加水分解物と、粒径が5~500nmで屈折率が1.44~1.5の範囲にあるシリカゾルと、金属キレート化合物とから形成されており、ハードコート膜上には低屈折率層が形成されており、低屈折率層は、粒径が10~150nmで屈折率が1.44以下の低屈折率中空シリカゾルと、シランカップリング剤又はその加水分解物と、金属キレート化合物とから形成されており、低屈折率層は、中空シリカゾルを10乃至50重量%の量で含み、且つ加水分解物と前記金属キレート化合物とを60/99乃至40/1の重量比で含有していることを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)