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1. (WO2013060561) SYSTÈME OPTIQUE DANS UN DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/060561    N° de la demande internationale :    PCT/EP2012/069632
Date de publication : 02.05.2013 Date de dépôt international : 04.10.2012
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Straße 2 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
SÄNGER, Ingo [DE/DE]; (DE) (US only).
SCHLESENER, Frank [DE/DE]; (DE) (US only)
Inventeurs : SÄNGER, Ingo; (DE).
SCHLESENER, Frank; (DE)
Mandataire : FRANK, Hartmut; Bonsmann . Bonsmann . Frank Reichspräsidentenstrasse 21-25 45470 Mülheim a.d. Ruhr (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2011 085 334.0 27.10.2011 DE
61/552,001 27.10.2011 US
Titre (EN) OPTICAL SYSTEM IN AN ILLUMINATION DEVICE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTÈME OPTIQUE DANS UN DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE D'UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to an optical system in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus. According to one aspect, an optical system in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus has at least one polarization-influencing element (110, 210, 310, 410, 510, 610), which, during the operation of the projection exposure apparatus, brings about a change in the polarization state of passing-through light, which change varies over the light-beam cross section, and at least one diffractive structure (130, 230, 430, 530, 630), which is arranged such that it and the polarization-influencing element directly follow one another in the light-propagation direction and, during the operation of the projection exposure apparatus, brings about a ray deflection of passing-through light, which ray deflection varies over the light-beam cross section, wherein the polarization-influencing element (110, 210, 310, 410, 510, 610) is produced from linearly or circularly birefringent material and has a geometry which, at least in regions, is wedge-shaped.
(FR)La présente invention concerne un système optique dans un dispositif d'éclairage d'un appareil d'exposition par projection microlithographique. Selon un aspect, un système optique dans un dispositif d'éclairage d'un appareil d'exposition par projection microlithographique a au moins un élément influençant la polarisation (110, 210, 310, 410, 510, 610), qui, durant le fonctionnement de l'appareil d'exposition par projection, provoque un changement dans l'état de polarisation d'une lumière traversante, lequel changement varie sur la section transversale de faisceau de lumière, et au moins une structure diffractante (130, 230, 430, 530, 630), qui est agencée de telle sorte qu'elle et l'élément influençant la polarisation se suivent directement l'un l'autre dans la direction de propagation de lumière et, durant le fonctionnement de l'appareil d'exposition par projection, provoquent une déviation de rayon de lumière traversante, laquelle déviation de rayon varie sur la section transversale de faisceau de lumière, l'élément influençant la polarisation (110, 210, 310, 410, 510, 610) étant produit à partir d'une matière biréfringente de manière linéaire ou circulaire et ayant une géométrie qui, au moins dans des régions, est en forme de coin.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)