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1. (WO2013059132) RÉSEAU DE SOURCES PLASMA DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS COMMUTÉ POUR PRODUCTION DE PLASMA UNIFORME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/059132    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/060287
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 15.10.2012
CIB :
H05H 1/46 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
DORF, Leonid [RU/US]; (US) (US only).
RAUF, Shahid [US/US]; (US) (US only).
COLLINS, Kenneth S. [US/US]; (US) (US only).
MISRA, Nipun [IN/US]; (US) (US only).
CARDUCCI, James D. [US/US]; (US) (US only).
LERAY, Gary [FR/US]; (US) (US only).
RAMASWAMY, Kartik [US/US]; (US) (US only)
Inventeurs : DORF, Leonid; (US).
RAUF, Shahid; (US).
COLLINS, Kenneth S.; (US).
MISRA, Nipun; (US).
CARDUCCI, James D.; (US).
LERAY, Gary; (US).
RAMASWAMY, Kartik; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Law Office of Robert M. Wallace 2112 Eastman Avenue, Suite 102 Ventura, CA 93003 (US)
Données relatives à la priorité :
61/549,336 20.10.2011 US
13/595,134 27.08.2012 US
Titre (EN) SWITCHED ELECTRON BEAM PLASMA SOURCE ARRAY FOR UNIFORM PLASMA PRODUCTION
(FR) RÉSEAU DE SOURCES PLASMA DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS COMMUTÉ POUR PRODUCTION DE PLASMA UNIFORME
Abrégé : front page image
(EN)An array of electron beam sources surrounding a processing region of a plasma reactor is periodically switched to change electron beam propagation direction and remove or reduce non-uniformities.
(FR)La présente invention porte sur un réseau de sources de faisceau d'électrons entourant une région de traitement d'un réacteur plasma qui est périodiquement commuté pour changer une direction de propagation de faisceau d'électrons et retirer ou réduire des non-uniformités.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)