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1. (WO2013059097) SOURCE DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS SUSPENDUE POUR GÉNÉRATION D'IONS PLASMA DANS UNE RÉGION DE TRAITEMENT DE PIÈCE DE TRAVAIL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/059097    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/060052
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 12.10.2012
CIB :
H05H 1/24 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
RAMASWAMY, Kartik [US/US]; (US) (US only).
BERA, Kallol [US/US]; (US) (US only).
COLLINS, Kenneth, S. [US/US]; (US) (US only).
RAUF, Shahid [US/US]; (US) (US only)
Inventeurs : RAMASWAMY, Kartik; (US).
BERA, Kallol; (US).
COLLINS, Kenneth, S.; (US).
RAUF, Shahid; (US)
Mandataire : WALLACE, Robert M; Law Office of Robert M. Wallace 2112 Eastman Avenue, Suite 102 Ventura, CA 93003 (US)
Données relatives à la priorité :
61/549,374 20.10.2011 US
13/595,655 27.08.2012 US
Titre (EN) OVERHEAD ELECTRON BEAM SOURCE FOR PLASMA ION GENERATION IN A WORKPIECE PROCESSING REGION
(FR) SOURCE DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS SUSPENDUE POUR GÉNÉRATION D'IONS PLASMA DANS UNE RÉGION DE TRAITEMENT DE PIÈCE DE TRAVAIL
Abrégé : front page image
(EN)A plasma reactor has a main chamber for processing a workpiece in a processing region bounded between an overhead ceiling and a workpiece support surface, the reactor having an overhead electron beam source that produces an electron beam flowing into the processing region through the ceiling of the main chamber.
(FR)Selon la présente invention, un réacteur plasma a une chambre principale pour traiter une pièce de travail dans une région de traitement liée entre un plafond suspendu et une surface de support de pièce de travail, le réacteur ayant une source de faisceau d'électrons suspendue qui produit un faisceau d'électrons circulant dans la région de traitement à travers le plafond de la chambre principale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)