WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013058457) APPAREIL À PHOTOPILE FLEXIBLE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/058457    N° de la demande internationale :    PCT/KR2012/004189
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 25.05.2012
CIB :
H01L 31/042 (2006.01), H01L 31/0216 (2006.01), H01L 31/18 (2006.01)
Déposants : LG INNOTEK CO., LTD. [KR/KR]; Seoul Square, 541, Namdaemunno 5-ga, Jung-gu Seoul 100-714 (KR) (Tous Sauf US).
LEE, Dong Keun [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Dong Keun; (KR)
Mandataire : SEO, Kyo Jun; 9th Fl. Hyun Juk Bldg., 832-41,Yeoksam-dong, Gangnam-gu Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2011-0106118 17.10.2011 KR
Titre (EN) FLEXIBLE SOLAR CELL APPARATUS AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
(FR) APPAREIL À PHOTOPILE FLEXIBLE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a flexible solar cell apparatus and a method of fabricating the same. The flexible solar cell apparatus includes a support substrate including an internal region and an outer region surrounding the internal region, a plurality of solar cells on the internal region, and a protective layer on the outer region and the solar cells. A top surface of each solar cell is lower than a top surface of the outer region of the support substrate.
(FR)La présente invention concerne un appareil à photopile flexible et son procédé de fabrication. L'appareil à photopile flexible comprend un substrat de support comprenant une zone interne et une zone externe entourant la zone interne, une pluralité de photopiles sur la zone interne, et une couche protectrice sur la zone externe et les photopiles. Une surface supérieure de chaque photopile est inférieure à une surface supérieure de la zone externe du substrat de support.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)