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1. (WO2013058421) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SÉPARATEUR, SÉPARATEUR FORMÉ PAR LEDIT PROCÉDÉ ET DISPOSITIF ÉLECTROCHIMIQUE PRÉSENTANT LEDIT SÉPARATEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/058421    N° de la demande internationale :    PCT/KR2011/007859
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 20.10.2011
CIB :
H01M 2/16 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Youngdungpo-gu Seoul 150-721 (KR) (Tous Sauf US).
LEE, Joo-Sung [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
HONG, Jang-Hyuk [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Jong-Hun [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Joo-Sung; (KR).
HONG, Jang-Hyuk; (KR).
KIM, Jong-Hun; (KR)
Mandataire : PHIL & ONZI INT'L PATENT & LAW FIRM; Jinsuk Bldg. 8F., 1536-7, Seocho-dong, Seocho-gu, Seoul 137-872 (KR)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING A SEPARATOR, SEPARATOR FORMED BY SAME AND ELECTROCHEMICAL DEVICE HAVING SAME
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SÉPARATEUR, SÉPARATEUR FORMÉ PAR LEDIT PROCÉDÉ ET DISPOSITIF ÉLECTROCHIMIQUE PRÉSENTANT LEDIT SÉPARATEUR
(KO) 세퍼레이터의 제조방법, 이로부터 형성된 세퍼레이터 및 이를 구비한 전기화학소자
Abrégé : front page image
(EN)The method for manufacturing a separator of the present invention comprises the steps of: (S1) preparing a porous base material having air pockets; (S2) coating a first solvent on at least one surface of the porous base material; (S3) coating a slurry, having inorganic particles scattered therein and a binder polymer dissolved in a second solvent, coated on the first solvent coating; and (S4) drying the first solvent and the second solvent simultaneously, and forming a porous organic-inorganic complex layer on the porous base material. According to the manufacturing method of the present invention, the blocking of the air pockets of the porous base material by the binder polymer in the slurry can be minimized, thereby reducing the increase in resistance of the separator due to the formation of the porous organic-inorganic complex layer.
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation d'un séparateur comprenant les étapes consistant à : (S1) préparer un matériau de base poreux présentant des poches d'air; (S2) déposer un premier solvant sur au moins une surface du matériau de base poreux; (S3) déposer une boue dans laquelle sont éparpillées des particules inorganiques et un polymère liant dissout dans un second solvant, déposé sur le premier revêtement de solvant; et (S4) sécher le premier solvant et le second solvant simultanément et former une couche complexe organique-inorganique poreuse sur le matériau de base poreux. Selon le procédé de fabrication de la présente invention, le blocage des poches d'air du matériau de base poreux par le polymère liant dans la boue peut être réduit au minimum, ce qui permet de réduire l'augmentation de la résistance du séparateur due à la formation de la couche complexe organique-inorganique poreuse.
(KO)본 발명의 세퍼레이터 제조방법은, (S1) 기공들을 갖는 다공성 기재를 준비하는 단계; (S2) 상기 다공성 기재의 적어도 일면 위에 제1 용매를 코팅하는 단계; (S3) 무기물 입자들이 분산되어 있으며 바인더 고분자가 제2 용매에 용해된 슬러리를 상기 코팅된 제1 용매 위에 코팅하는 단계; 및 (S4) 상기 제1 용매 및 제2 용매를 동시에 건조처리하여, 다공성 유기-무기 복합층이 상기 다공성 기재 위에 형성되도록 하는 단계를 포함한다. 본 발명의 제조방법에 따르면, 다공성 기재의 기공들이 슬러리 내의 바인더 고분자에 의해 막히는 현상을 최소화할 수 있으므로, 다공성 유기-무기 복합층 형성에 따른 세퍼레이터의 저항 증가를 저감할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)