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1. (WO2013058410) DISPOSITIF D'ÉLIMINATION DE LA POUSSIÈRE ET DISPOSITIF D'IMAGERIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/058410    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/077666
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 19.10.2012
CIB :
B08B 7/02 (2006.01), H01L 41/18 (2006.01), H04N 5/217 (2011.01), G03B 17/00 (2006.01), G02B 27/00 (2006.01), B06B 1/06 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP)
Inventeurs : IFUKU, Toshihiro; (JP).
SHIMIZU, Yasushi; (JP).
FURUTA, Tatsuo; (JP).
MATSUDA, Takanori; (JP).
KUBOTA, Makoto; (JP).
HAYASHI, Jumpei; (JP)
Mandataire : OKABE, Yuzuru; 22F, Marunouchi Kitaguchi Bldg., 1-6-5 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-230368 20.10.2011 JP
2012-060202 16.03.2012 JP
2012-177562 09.08.2012 JP
2012-188984 29.08.2012 JP
Titre (EN) DUST REMOVING DEVICE AND IMAGING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ÉLIMINATION DE LA POUSSIÈRE ET DISPOSITIF D'IMAGERIE
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a dust removing device (470) and an imaging device using the dust removing device (470). In a dust removing device (470) to be set on a base (501), including a piezoelectric element (430) formed of a piezoelectric material (431) and a pair of opposing electrodes (432, 433), a vibration member, and a fixation member containing at least a high molecular compound component, a phase transition temperature T from a first ferroelectric crystal phase to a second ferroelectric crystal phase of the piezoelectric material (431) is set to -60°C≤T≤-5°C, and whereby, the dust removing device (470) can be designed and controlled appropriately and high dust removal performance can be obtained even at low temperature.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'élimination de la poussière pouvant être mis au point et contrôlé de manière appropriée, qui offre une grande capacité d'élimination de la poussière, même à basse température; et un dispositif d'imagerie utilisant le dispositif d'élimination de la poussière. Le dispositif d'élimination de la poussière, qui se fixe sur un socle, comprend: un élément piézo-électrique constitué d'un matériau piézoélectrique et d'une paire d'électrodes opposées; un élément vibrant; et un élément de fixation contenant au moins un composant à composé de haut poids moléculaire. Dans le dispositif d'élimination de la poussière, une température de transition de phase T, qui passe d'une première à une seconde phase cristalline ferro-électrique du matériau piézoélectrique, est fixée à -60°C≤T≤-5°C. Ainsi, le dispositif d'élimination de la poussière peut être mis au point et contrôlé de manière appropriée, et offrir une grande capacité d'élimination de la poussière, même à basse température.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)