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1. (WO2013058204) STRUCTURE DE BLINDAGE POUR ÉQUIPEMENT DE STÉRILISATION PAR FAISCEAUX D'ÉLECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/058204    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/076576
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 15.10.2012
CIB :
A61L 2/08 (2006.01), A61L 2/26 (2006.01), G21K 5/00 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01)
Déposants : HITACHI ZOSEN CORPORATION [JP/JP]; 7-89, Nanko-kita 1-chome, Suminoe-ku, Osaka-shi Osaka 5598559 (JP)
Inventeurs : YOKOBAYASHI, Takayasu; .
OGAWA, Satoshi; .
HOSOKAWA, Toru;
Mandataire : MORIMOTO INT'L PATENT OFFICE; ORIX HOMMACHI Bldg. 4th Floor, 4-1, Nishi-Honmachi 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-227762 17.10.2011 JP
Titre (EN) SHIELD STRUCTURE FOR ELECTRON BEAM STERILIZATION EQUIPMENT
(FR) STRUCTURE DE BLINDAGE POUR ÉQUIPEMENT DE STÉRILISATION PAR FAISCEAUX D'ÉLECTRONS
(JA) 電子線殺菌設備の遮蔽構造
Abrégé : front page image
(EN)A shield structure for electron beam sterilization equipment has outer-surface and inner-surface sterilization zones (Z2, Z3) that project electron beams into a container, and are located in first through third shield chambers (R1-R3) for housing first through third revolving channels (L1-L3). An exit trap zone (Z4) connected to the inner-surface sterilization zone (Z3) has fourth through sixth shield chambers (R4-R6) for housing fourth through sixth revolving channels (L4-L6). First through third inner-circumferential shields (S1-S3) are positioned along the inner-circumferential sections of the first through third revolving channels (L1-L3). Fourth and fifth inner-circumferential shields (S4, S5) are positioned along the inner-circumferential sections of the fourth and fifth revolving channels (L4-L5). At least one of the following conditions is satisfied: a condition (I) in which the outer diameter (D5) of the inner-circumferential shield (S5) is larger than the outer diameter (D4) of the inner-circumferential shield (S4); and a condition (II) in which the outer diameter (DT2) of an inner-circumferential shield (ST2) in a revolving channel (LT2) on the downstream side of an entrance trap zone (Z1) connected to the outer-surface sterilization zone (Z2) is larger than the outer diameter (D1) of the inner-circumferential shield (S1) in the revolving channel (L1) on the upstream side of the outer-surface sterilization zone (Z2).
(FR)La présente invention concerne une structure de blindage pour équipement de stérilisation par faisceaux d'électrons comprenant des zones de stérilisation en surface externe et interne (Z2, Z3) projetant des faisceaux d'électrons à l'intérieur d'un récipient, et situées dans des première à troisième chambres de blindage (R1 à R3) destinées à loger le premier au troisième canal rotatif (L1 à L3). Une zone de piégeage en sortie (Z4) connectée à la zone de stérilisation en surface interne (Z3) est dotée d'une quatrième à une sixième chambres de blindage (R4 à R6) destinées à loger un quatrième à un sixième canaux rotatifs (L4 à L6). Des premiers à troisième écrans périphériques internes (S1 à S3) sont positionnés le long des sections périphériques internes du premier au troisième canal rotatif (L1 à L3). Les quatrième et cinquième écrans périphériques internes (S4, S5) sont positionnés le long des sections périphériques internes du quatrième et du cinquième canal rotatif (L4, L5). Au moins une des conditions suivantes est satisfaite : une condition (I) dans laquelle le diamètre externe (D5) de l'écran périphérique interne (S5) est supérieur au diamètre externe (D4) de l'écran périphérique interne (S4) ; et une condition (II) dans laquelle le diamètre externe (DT2) d'un écran périphérique interne (ST2) dans un canal rotatif (LT2) du côté aval d'une zone de piégeage en entrée (Z1) connectée à la zone de stérilisation en surface externe (Z2) est supérieur au diamètre externe (D1) de l'écran périphérique interne (S1) dans le canal rotatif (L1) du côté amont de la zone de stérilisation en surface externe (Z2).
(JA) 電子線殺菌設備の遮蔽構造は、第1~第3旋回経路L1~L3を収容する第1~第3遮蔽室R1~R3に、容器に電子線を照射する外面、内面殺菌ゾーンZ2,Z3を有する。内面殺菌ゾーンZ3に接続された出口トラップゾーンZ4は、第4~第6旋回経路L4~L6を収容する第4~第6遮蔽室R4~R6を有する。第1~第3旋回経路L1~L3の内周部に沿って第1~第3内周遮蔽体S1~S3を設ける。第4~第5旋回経路L4~L5の内周部に沿って第4,第5内周遮蔽体S4,S5を設ける。内周遮蔽体S4の外径D4よりも内周遮蔽体S5の外径D5が大きいという条件(I)、および外面殺菌ゾーンZ2に接続された入口トラップゾーンZ1の下流側の旋回経路LT2の内周遮蔽体ST2の外径DT2が、外面殺菌ゾーンZ2の上流側の旋回経路L1の内周遮蔽体S1の外径D1よりも大きいという条件(II)の少なくとも一方を満たす。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)