WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013058197) CORPS DE SUPPORT POUR PLAQUE D'IMPRESSION À PLAT, ET PLAQUE D'IMPRESSION À PLAT PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/058197    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/076516
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 12.10.2012
CIB :
B41N 1/14 (2006.01), B41N 3/00 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI PAPER MILLS LIMITED [JP/JP]; 10-14, Ryogoku 2-chome, Sumida-ku, Tokyo 1300026 (JP)
Inventeurs : DOI, Daisuke; (JP).
OKAMOTO, Yukio; (JP).
AGATA, Koichi; (JP).
KAWAMATA, Yukinao; (JP)
Mandataire : TSUKUNI & ASSOCIATES; KASUMIGASEKI TOKYU Bldg., 3-7-1, Kasumigaseki, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-229981 19.10.2011 JP
2011-279848 21.12.2011 JP
2012-060070 16.03.2012 JP
2012-179454 13.08.2012 JP
2012-182557 21.08.2012 JP
2012-201211 13.09.2012 JP
Titre (EN) SUBSTRATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND NEGATIVE PHOTOSENSITIVE PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING
(FR) CORPS DE SUPPORT POUR PLAQUE D'IMPRESSION À PLAT, ET PLAQUE D'IMPRESSION À PLAT PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIVE
(JA) 平版印刷版用支持体及びネガ型感光性平版印刷版
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a substrate for a lithographic printing plate, being capable of forming a lithographic printing plate which exhibits excellent plate durability, excellent scumming resistance, excellent ink release and excellent fill-in resistance; and a negative photosensitive plate for lithographic printing. A substrate for a lithographic printing plate, having a hydrophilic layer which contains an inorganic filler such that the particle size distribution thereof has peaks respectively within the range of 0.2 to less than 0.6μm and the range of 0.6 to less than 1.5μm; and a negative photosensitive plate for lithographic printing, using the same.
(FR)L'invention fournit une plaque d'impression à plat photosensible de type négative, et un corps de support pour plaque d'impression à plat permettant d'obtenir une plaque d'impression à plat excellente à la fois en termes de durabilité à l'impression, de résistance au graissage, de propriétés de retrait d'encre, et de durabilité au remplissage de trous. Plus précisément, l'invention concerne un corps de support pour plaque d'impression à plat dont le pic de répartition granulométrique d'un remplissage inorganique compris dans une couche hydrophile se trouve dans une plage supérieure ou égale à 0,2μm et inférieure à 0,6μm, et dans une plage supérieure ou égale à 0,6μm et inférieure à 1,5μm. L'invention concerne également une plaque d'impression à plat photosensible de type négative mettant en œuvre ce corps de support pour plaque d'impression à plat.
(JA) 耐刷性、耐地汚れ性、インキ脱離性及び耐網がらみ性の全てに優れた平版印刷版が得られる平版印刷版用支持体、及びネガ型感光性平版印刷版を提供する。 親水性層が含有する無機フィラーの粒度分布のピークが0.2μm以上0.6μm未満の範囲と、0.6μm以上1.5μm未満の範囲とに存在する平版印刷版用支持体、及びこれを用いたネガ型感光性平版印刷版。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)