WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013057824) DISPOSITIF D'ANALYSE DE MASSE PAR IONISATION LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/057824    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/074211
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 20.10.2011
CIB :
H01J 49/10 (2006.01), G01N 27/62 (2006.01), G01N 27/64 (2006.01), H01J 27/24 (2006.01)
Déposants : TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 1528550 (JP) (Tous Sauf US).
KOGAKUIN UNIVERSITY [JP/JP]; 1-24-2, Nishi-shinjyuku, Shinjyuku-ku, Tokyo 1638677 (JP) (Tous Sauf US).
TOYAMA CO., LTD. [JP/JP]; 4-13-16, Hibarigaoka, Zama-shi, Kanagawa 2520003 (JP) (Tous Sauf US).
FUJII, Masaaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAMOTO, Tetsuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJII, Masaaki; (JP).
SAKAMOTO, Tetsuo; (JP)
Mandataire : NAMAI, Kazuhira; NAMAI and Associates, Fonte Aoyama #612, 2-22-14, Minami Aoyama, Minato-ku, Tokyo 1070062 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) LASER IONIZATION MASS ANALYSIS DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ANALYSE DE MASSE PAR IONISATION LASER
(JA) レーザイオン化質量分析装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a laser ionization mass analysis device capable of highly sensitive analysis of a polymeric material, and capable of providing high selectivity in mass spectra and polymer types. A laser ionization mass analysis device that ionizes a polymeric material and analyzes the mass comprises a sample table (10), an ion beam source (20), a laser light source (30) and an analysis unit (40). A polymeric material is placed on the sample table (10). The ion beam source (20) irradiates the polymeric material placed on the sample table with an ion beam. The laser light source (30) radiates laser light parallel to the surface of the sample table and irradiates molecules derived from the polymeric material that are released by the ion beam from the ion beam source from the polymeric material placed on the sample table, and thereby ionizes the molecules derived from the polymeric material. The analysis unit (40) performs mass analysis of the sample ionized by the laser light from the laser source.
(FR)La présente invention porte sur un dispositif d'analyse de masse par ionisation laser apte à une analyse hautement sensible d'une matière polymère et apte à fournir une sélectivité élevée de spectres de masse et de types de polymère. Un dispositif d'analyse de masse par ionisation laser qui ionise une matière polymère et analyse la masse comprend une table d'échantillon (10), une source de faisceau d'ions (20), une source de lumière laser (30) et une unité d'analyse (40). Une matière polymère est placée sur la table d'échantillon (10). La source de faisceau d'ions (20) irradie la matière polymère placée sur la table d'échantillon avec un faisceau d'ions. La source de lumière laser (30) irradie une lumière laser parallèle à la surface de la table d'échantillon et irradie des molécules issues de la matière polymère qui sont libérées, par le faisceau d'ions provenant de la source de faisceau d'ions, de la matière polymère placée sur la table d'échantillon, et ionise ainsi les molécules issues de la matière polymère. L'unité d'analyse (40) réalise une analyse de masse de l'échantillon ionisé par la lumière laser provenant de la source laser.
(JA)高分子材料を高感度に分析可能であり、且つ、質量スペクトルと高分子の種類の選択性も高いレーザイオン化質量分析装置を提供する。高分子材料をイオン化してその質量を分析するレーザイオン化質量分析装置は、試料台(10)とイオンビーム源(20)とレーザ光源(30)と分析部(40)とからなる。試料台(10)は、高分子材料が配置される。イオンビーム源(20)は、試料台に配置される高分子材料にイオンビームを照射する。レーザ光源(30)は、試料台の表面に平行にレーザ光を照射するものであり、イオンビーム源からのイオンビームにより試料台に配置される高分子材料から放出される高分子材料由来の分子にレーザ光を照射し、高分子材料由来の分子をイオン化する。分析部(40)は、レーザ光源からのレーザ光によりイオン化される試料を質量分析する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)