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1. (WO2013057228) DÉPÔT LIQUIDE DIRECT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/057228    N° de la demande internationale :    PCT/EP2012/070711
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 19.10.2012
CIB :
C23C 14/12 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), B01B 1/00 (2006.01), C23C 14/22 (2006.01), B01D 3/10 (2006.01), B01D 1/00 (2006.01)
Déposants : OERLIKON ADVANCED TECHNOLOGIES AG [LI/LI]; Iramali 18 FL-9496 Balzers (LI)
Inventeurs : VOSER, Stephan; (CH).
RAVELLI, Fabio Antonio; (IT).
GAECHTER, Bruno; (CH)
Mandataire : TROESCH SCHEIDEGGER WERNER AG; Jacques Troesch Schwäntenmos 14 CH-8126 Zumikon (CH)
Données relatives à la priorité :
61/550,013 21.10.2011 US
61/642,074 03.05.2012 US
Titre (EN) DIRECT LIQUID DEPOSITION
(FR) DÉPÔT LIQUIDE DIRECT
Abrégé : front page image
(EN)Liquid precursor material of a coating substance and a solvent is provided in a reservoir. In one variant the liquid precursor material is distilled, the resultant liquid coating substance is vaporized and ejected through a vapour distribution nozzle arrangement (7) into a vacuum recipient (3) and onto a substrate (5) to be coated. Alternatively, the liquid precursor material is directly vaporized. From the two-component vapour coating substance vapour is applied to the substrate (5') to be coated. In this variant separation of solvent vapour and coating substance vapour is performed especially downstream vaporizing. The vapour distribution nozzle arrangement has a vapour input (474) at the apex of a recessed vapour distribution element (470) and a single surface deflection element (476) directing the vapour to the walls (478) of the recess (472).
(FR)L'invention concerne un matériau précurseur liquide d'une substance de revêtement et d'un solvant qui est disposé dans un réservoir. Selon une variante, le matériau précurseur liquide est distillé, la substance de revêtement liquide résultante est vaporisée et éjectée par un agencement de buse de distribution de vapeur (7) dans un récipient sous vide (3) et sur un substrat (5) à revêtir. Dans un autre mode de réalisation, le matériau précurseur liquide est directement vaporisé. A partir de la substance de revêtement sous forme de vapeur à deux constituants, de la vapeur est appliquée sur le substrat (5') à revêtir. Dans ce mode de réalisation, une séparation de la vapeur de solvant et de la vapeur de substance de revêtement est réalisée, notamment lors de la vaporisation en aval. L'agencement de buse de distribution de vapeur comporte une entrée (474) de vapeur au niveau de l'apex d'un élément (470) de distribution de vapeur évidé et un élément (476) de déviation à surface unique qui dirige la vapeur vers les parois (478) de l'évidement (472).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)