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1. WO2013057046 - MIROIR À SUBSTRAT PIÉZO-ÉLECTRIQUE, AGENCEMENT OPTIQUE ÉQUIPÉ D'UN TEL MIROIR ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ

Numéro de publication WO/2013/057046
Date de publication 25.04.2013
N° de la demande internationale PCT/EP2012/070251
Date du dépôt international 12.10.2012
CIB
G02B 5/08 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
08Miroirs
C04B 35/472 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
01à base d'oxydes
46à base d'oxydes de titane ou de titanates
462à base de titanates
472à base de titanates de plomb
C04B 35/499 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
04CIMENTS; BÉTON; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES
BCHAUX; MAGNÉSIE; SCORIES; CIMENTS; LEURS COMPOSITIONS, p.ex. MORTIERS, BÉTON OU MATÉRIAUX DE CONSTRUCTION SIMILAIRES; PIERRE ARTIFICIELLE; CÉRAMIQUES; RÉFRACTAIRES; TRAITEMENT DE LA PIERRE NATURELLE
35Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur composition; Compositions céramiques; Traitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques
01à base d'oxydes
495à base d'oxydes de vanadium, de niobium, de tantale, de molybdène ou de tungstène ou de leurs solutions solides avec d'autres oxydes, p.ex. vanadates, niobates, tantalates, molybdates ou tungstates
497à base de solutions solides avec de l'oxyde de plomb
499contenant également des titanates
C30B 29/32 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
30CROISSANCE DES CRISTAUX
BCROISSANCE DES MONOCRISTAUX; SOLIDIFICATION UNIDIRECTIONNELLE DES MATÉRIAUX EUTECTIQUES OU DÉMIXTION UNIDIRECTION- NELLE DES MATÉRIAUX EUTECTOÏDES; AFFINAGE DES MATÉRIAUX PAR FUSION DE ZONE; PRODUCTION DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; MONOCRISTAUX OU MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; POST-TRAITEMENT DE MONOCRISTAUX OU DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; APPAREILLAGES À CET EFFET
29Monocristaux ou matériaux polycristallins homogènes de structure déterminée caractérisés par leurs matériaux ou par leur forme
10Composés inorganiques ou compositions inorganiques
16Oxydes
22Oxydes complexes
32Titanates; Germanates; Molybdates; Tungstates
G21K 1/06 2006.1
GPHYSIQUE
21PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
KTECHNIQUES NON PRÉVUES AILLEURS POUR MANIPULER DES PARTICULES OU DES RAYONNEMENTS IONISANTS; DISPOSITIFS D'IRRADIATION; MICROSCOPES À RAYONS GAMMA OU À RAYONS X
1Dispositions pour manipuler des particules ou des rayonnements ionisants, p.ex. pour focaliser ou pour modérer
06utilisant la diffraction, la réfraction ou la réflexion, p.ex. monochromateurs
H01L 41/187 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
41Dispositifs piézo-électriques en général; Dispositifs électrostrictifs en général; Dispositifs magnétostrictifs en général; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Détails
16Emploi de matériaux spécifiés
18pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
187Compositions céramiques
CPC
B82Y 10/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
10Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
G02B 5/0816
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0816Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
G02B 5/0891
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0891Ultraviolet [UV] mirrors
G03F 7/70266
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system
70266Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control
G03F 7/70316
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70316Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors or diffractive optical elements
G03F 7/7095
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7095Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
Déposants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Inventeurs
  • THIELE, Christian
Mandataires
  • KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE
Données relatives à la priorité
10 2011 084 649.217.10.2011DE
61/547,98817.10.2011US
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) MIRROR WITH PIEZOELECTRIC SUBSTRATE, OPTICAL ARRANGEMENT THEREWITH AND ASSOCIATED METHOD
(FR) MIROIR À SUBSTRAT PIÉZO-ÉLECTRIQUE, AGENCEMENT OPTIQUE ÉQUIPÉ D'UN TEL MIROIR ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
Abrégé
(EN) The invention relates to a mirror (13), comprising a substrate (20) and a reflective coating (21), wherein the substrate (20) comprises a piezoelectric material selected from the group comprising PMN-PT and PZN-PT. The invention also relates to an optical arrangement comprising at least one such mirror (13) and a device (25) for generating an electric field (26) in the piezoelectric material of the substrate (20) in order to influence a thickness (d) of the reflective coating (21), the device (25) being designed to set the thickness (d) of the reflective coating (21) such that the reflectivity of the reflective coating (21 ) is maximal at an operating wavelength (λΒ) of the optical arrangement (1). The invention also relates to an associated method for setting the maximum wavelength of the mirror (13).
(FR) La présente invention concerne un miroir (13), comportant un substrat (20) et un revêtement réfléchissant (21), le substrat comprenant un matériau piézo-électrique choisi parmi le groupe constitué de matériaux de types PMN-PT et PZN-PT. L'invention concerne également un agencement optique comportant au moins un tel miroir (13) et un dispositif (25) pour la génération d'un champ électrique (26) dans le matériau piézo-électrique du substrat (2) afin d'influencer une épaisseur (d) du revêtement réfléchissant (21), le dispositif (25) étant agencé pour régler l'épaisseur (d) du revêtement réfléchissant (21) de sorte que la réflexivité du revêtement réfléchissant (21) soit maximale à une longueur d'onde de fonctionnement (λΒ) de l'agencement optique (1). L'invention concerne en outre un procédé associé pour le réglage de la longueur d'onde maximale du miroir (13).
Documents de brevet associés
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international