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1. (WO2013056637) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN RÉSEAU HOLOGRAPHIQUE BLAZÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/056637    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/082942
Date de publication : 25.04.2013 Date de dépôt international : 15.10.2012
CIB :
G02B 5/18 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : SOOCHOW UNIVERSITY [CN/CN]; No.199 Renai Road, Industrial Park, Jiangsu Suzhou, Jiangsu 215123 (CN)
Inventeurs : LIU, Quan; (CN).
WU, Jianhong; (CN).
CHEN, Minghui; (CN)
Mandataire : UNITALEN ATTORNEYS AT LAW; 7th Floor, Scitech Place No.22, Jian Guo Men Wai Ave., Chao Yang District Beijing 100004 (CN)
Données relatives à la priorité :
201110318454.X 19.10.2011 CN
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING HOLOGRAPHIC BLAZED GRATING
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN RÉSEAU HOLOGRAPHIQUE BLAZÉ
(ZH) 一种全息闪耀光栅制作方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing a holographic blazed grating comprises: manufacturing a homogeneous grating (13) on a substrate (10); and performing oblique-ion beam etching by using the homogeneous grating (13) as a mask, so as to obtain a required blazed grating (14). When manufacturing the homogeneous grating (13), the time of performing positive ion-beam etching can be controlled, so that a groove depth (d) of the homogeneous grating (13) can be accurately controlled. In addition, after a photoresist grating (12) is obtained by performing interference lithography, an ashing process may be further added to control a duty cycle of the photoresist grating (12), thereby controlling a duty cycle of the required homogeneous grating (13). Therefore, the method for manufacturing a holographic blazed grating implements multi-parameter control of blazed grating manufacturing, so that the manufacturing precision is improved.
(FR)La présente invention a trait à un procédé de fabrication d'un réseau holographique blazé qui consiste : à fabriquer un réseau homogène (13) sur un substrat (10) ; et à effectuer une gravure ionique oblique à l'aide dudit réseau homogène (13) faisant office de masque, de manière à obtenir un réseau blazé (14) exigé. Lors de la fabrication du réseau homogène (13), le moment de réalisation de la gravure ionique positive peut être contrôlé, de sorte qu'une profondeur de rainure (d) du réseau homogène (13) peut être réglée avec précision. De plus, après qu'un réseau en photorésist (12) a été obtenu au moyen d'une lithographie interférentielle, un processus de calcination peut être en outre ajouté afin de contrôler le facteur d'utilisation du réseau en photorésist (12), ce qui permet de contrôler le facteur d'utilisation du réseau homogène (13) exigé. Par conséquent, ledit procédé de fabrication d'un réseau holographique blazé met en œuvre un contrôle à plusieurs paramètres de la fabrication du réseau blazé, de sorte que la précision de fabrication est accrue.
(ZH)一种全息闪耀光栅的制作方法,包括:在基片(10)上制作同质光栅(13),并以同质光栅(13)为掩模进行斜向离子束刻蚀得到所需的闪耀光栅(14)。由于在制作同质光栅(13)时,可以控制正向离子束刻蚀的时间,因此同质光栅(13)的槽深(d)能得到精确控制。另外,在干涉光刻得到光刻胶光栅(12)之后,可以进一步增加灰化工艺,控制光刻胶光栅(12)的占宽比,从而控制所需的同质光栅(13)的占宽比。因此,全息闪耀光栅的制作方法实现了制作闪耀光栅的多参数控制,提高了制作精度。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)