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1. (WO2013055488) PROCÉDÉ DE GRAVURE DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/055488    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/055086
Date de publication : 18.04.2013 Date de dépôt international : 13.09.2012
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
DOAN, Kenny, Linh [US/US]; (US) (US Seulement).
KIM, Jong, Mun [KR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DOAN, Kenny, Linh; (US).
KIM, Jong, Mun; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, L.L.P. 3040 Post Oak Blvd., Suite 1500 Houston, Texas 77056-6582 (US)
Données relatives à la priorité :
61/546,735 13.10.2011 US
13/455,354 25.04.2012 US
Titre (EN) METHOD FOR ETCHING SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE GRAVURE DE SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A method for etching a substrate includes etching at least one first layer of the substrate with a non-uniform substrate temperature and etching at least one second layer of the substrate with uniform substrate temperatures.
(FR)La présente invention concerne un procédé de gravure de substrat, impliquant les étapes suivantes : gravure d'au moins une première couche du substrat sous une température de substrat non uniforme ; et gravure d'au moins une seconde couche du substrat sous des températures de substrat uniformes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)