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1. (WO2013055472) CONFIGURATION DE CHAMBRE D'ÉLECTRODE D'ÉLECTRODÉSIONISATION PERMETTANT D'ACCROÎTRE LA TOLÉRANCE DE DURETÉ, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN EFFLUENT DÉSIONISÉ UTILISANT CETTE CHAMBRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/055472    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/054352
Date de publication : 18.04.2013 Date de dépôt international : 10.09.2012
CIB :
C02F 1/469 (2006.01)
Déposants : GENERAL ELECTRIC COMPANY [US/US]; 1 River Road Schenectady, NY 12345 (US) (US Seulement).
BARBER, John, H. [CA/CA]; (CA) (US Seulement)
Inventeurs : BARBER, John, H.; (CA)
Mandataire : CONKLIN, Mark, A.; General Electric Company Global Patent Operation 2 Corporate Drive, Suite 648 Shelton, CT 06484 (US)
Données relatives à la priorité :
13/273,884 14.10.2011 US
Titre (EN) ELECTRODEIONIZATION ELECTRODE CHAMBER CONFIGURATION FOR ENHANCING HARDNESS TOLERANCE AND METHOD OF PRODUCING A DEIONIZED EFFLUENT WITH THIS CHAMBER
(FR) CONFIGURATION DE CHAMBRE D'ÉLECTRODE D'ÉLECTRODÉSIONISATION PERMETTANT D'ACCROÎTRE LA TOLÉRANCE DE DURETÉ, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN EFFLUENT DÉSIONISÉ UTILISANT CETTE CHAMBRE
Abrégé : front page image
(EN)An electrodeionization stack for deionizing a feed solution. The electrodeionization stack includes a recirculating system adapted to flow an acidic anode effluent solution into a cathode compartment. The anode compartment, may have a three-layer ion exchange resin stack, the three-layer ion exchange resin stack being made up of a layer of cation exchange resin, a layer of anion exchange resin, and a mixed bed ion-exchange resin located between the cation and the anion exchange resins. The cathode compartment may have anion exchange resins adjacent the cathode and a mixed bed ion exchange resins.
(FR)L'invention concerne un empilement d'électrodésionisation servant à désioniser une solution de charge. L'empilement d'électrodésionisation comprend un système de recirculation conçu pour permettre l'écoulement d'une solution d'effluent d'anode acide dans un compartiment de cathode. Le compartiment d'anode peut comporter un empilement de trois couches de résine échangeuse d'ions, ledit empilement étant constitué d'une couche de résine échangeuse de cations, d'une couche de résine échangeuse d'anions et d'une résine échangeuse d'ions à lit mixte se situant entre les résines échangeuses de cations et d'anions. Le compartiment de cathode peut comporter des résines échangeuses d'anions adjacentes à la cathode et une résine échangeuse d'ions à lit mixte.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)