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1. (WO2013054869) MIROIR POUR RÉFLEXION DE LUMIÈRE SOLAIRE, ET DISPOSITIF DE RÉFLEXION POUR GÉNÉRATION D'ÉNERGIE THERMIQUE SOLAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/054869    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/076407
Date de publication : 18.04.2013 Date de dépôt international : 12.10.2012
CIB :
G02B 5/08 (2006.01), F24J 2/10 (2006.01), G02B 5/10 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta, Inc. [JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : EGURO, Yayoi; (JP)
Mandataire : KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-226070 13.10.2011 JP
Titre (EN) MIRROR FOR REFLECTING SUNLIGHT AND REFLECTING DEVICE FOR SOLAR POWER GENERATION
(FR) MIROIR POUR RÉFLEXION DE LUMIÈRE SOLAIRE, ET DISPOSITIF DE RÉFLEXION POUR GÉNÉRATION D'ÉNERGIE THERMIQUE SOLAIRE
(JA) 太陽光反射用ミラー及び太陽熱発電用反射装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a mirror for reflecting sunlight having a film mirror wherein a reflective layer is disposed on a resin film support and a substrate, wherein the film mirror is bonded to the substrate, the surface roughness Ra on the incident side of the mirror for reflecting sunlight is between 0.01 and 0.1 µm, and the film mirror has a concave surface.
(FR)L'invention concerne un miroir pour réflexion de lumière solaire qui possède : un matériau de base; et un miroir film dans lequel une couche de réflexion est agencée sur un corps de support sous forme de film de résine. Ce miroir pour réflexion de lumière solaire est configuré de telle sorte que ledit miroir film est collé audit matériau de base; la rugosité superficielle (Ra) côté incidence de lumière dudit miroir pour réflexion de lumière solaire, est supérieure ou égale à 0,01μm et inférieure ou égale à 0,1μm; et ledit miroir film possède une forme concave.
(JA)樹脂フィルム状支持体に反射層が設けられたフィルムミラーと、基材とを有する太陽光反射用ミラーであって、前記基材に前記フィルムミラーが接合されており、前記太陽光反射用ミラーの光入射側の表面粗さRaが0.01μm以上0.1μm以下であり、前記フィルムミラーが凹面状の形状を有している構成とした。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)