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1. (WO2013054801) DISPOSITIF DE COMMANDE DE FLUIDE, ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/054801    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/076163
Date de publication : 18.04.2013 Date de dépôt international : 10.10.2012
CIB :
F04B 45/04 (2006.01), F04B 43/02 (2006.01), F04B 43/04 (2006.01), F04B 45/047 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventeurs : HIRATA, Atsuhiko; (JP).
OMORI, Kenta; (JP)
Mandataire : KAEDE PATENT ATTORNEYS' OFFICE; 1-4-34, Noninbashi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-223594 11.10.2011 JP
2012-095721 19.04.2012 JP
Titre (EN) FLUID-CONTROL DEVICE, AND METHOD FOR ADJUSTING FLUID-CONTROL DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE COMMANDE DE FLUIDE, ET PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE CELUI-CI
(JA) 流体制御装置、流体制御装置の調整方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a fluid-control device capable of adjusting the natural frequency of a flexible plate to an optimal value, and a method for adjusting the fluid-control device. In a pressing step, a piezoelectric pump (101) is placed on a stage (502), with a cover plate (195) facing up; the stage (502) is raised; and the center portion of the main surface of the cover plate (195) on the side opposite the vibration plate (141) is depressed using a pressing pin (503). As a result, the cover plate (195) and a base plate (191) form a flexed shape projecting upward on the vibration-plate (141) side, pulling the portion bonded to a a flexible plate (151) and flexing the flexible plate (151) to project upward on the vibration-plate (141) side. This causes residual tensile stress to occur in the movable part (154) of the flexible plate (151), increasing the tensile stress of the movable part (154) of the flexible plate (151) due to the residual tensile stress, and allowing the natural frequency of the movable part (154) to be adjusted to an optimal value obtained at a desired pump pressure at or above a designated value with power consumption within a permissible range.
(FR)L'invention fournit un dispositif de commande de fluide et son procédé de réglage permettant de régler à une valeur optimale la fréquence d'oscillation naturelle d'une plaque flexible. Lors d'une étape de pression, une pompe piézoélectrique (101) est posée sur un support (502) avec une plaque de couvercle (195) vers le haut, le support (502) est élevé, et la partie centrale de la face principale côté opposé à une plaque d'oscillation (141) de la plaque de couvercle (195), est soumise à une pression à l'aide d'une broche de pression (503). Par conséquent, la plaque de couvercle (195) et un substrat (191) prennent une forme contraire en mettant en relief le côté plaque d'oscillation (141), et font courber la plaque flexible (151) par traction d'une portion de liaison avec cette dernière, et mettent en relief le côté plaque d'oscillation (141). Ainsi, une résistance à la traction résiduelle apparaît au niveau d'une partie mobile (154) de la plaque flexible (151). La résistance à la traction de la partie mobile (154) de la plaque flexible (151) augmente donc à l'aide de cette résistance à la traction résiduelle, et la fréquence d'oscillation naturelle de la partie mobile (154) peut être réglée à une valeur optimale permettant d'obtenir la pression de pompe souhaitée supérieure ou égale à une valeur prédéfinie selon une consommation énergétique comprise dans une plage autorisée.
(JA) 可撓板の固有振動数を最適値に調整できる流体制御装置、及び当該流体制御装置の調整方法を提供する。押圧工程では、圧電ポンプ(101)をカバー板(195)を上にしてステージ(502)の上に戴置し、ステージ(502)を上昇させ、押圧ピン(503)でカバー板(195)の振動板(141)とは逆側の主面の中央部を押圧する。この結果、カバー板(195)及び基板(191)は、振動板(141)側を凸にして反った形状となり、可撓板(151との接合部分を引っ張って可撓板(151)を振動板(141)側を凸にして反らせる。これにより、可撓板(151)の可動部(154)には残留引張応力が生じる。よって、この残留引張応力によって可撓板(151)の可動部(154)の引張応力が高まり、可動部(154)の固有振動数を、許容範囲内の消費電力で所定値以上の所望のポンプ圧力が得られる最適値に調整することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)