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1. (WO2013054788) SYSTÈME D'IRRADIATION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, ET PROCÉDÉ DE PLANIFICATION D'IRRADIATION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/054788    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/076128
Date de publication : 18.04.2013 Date de dépôt international : 09.10.2012
CIB :
A61N 5/10 (2006.01), G21K 5/04 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1-1, Osaki 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1416025 (JP) (Tous Sauf US).
NATIONAL CANCER CENTER [JP/JP]; 1-1, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040045 (JP) (Tous Sauf US).
SASAI Kenzo [JP/JP]; (JP) (US only).
NISHIO Teiji [JP/JP]; (JP) (US only)
Inventeurs : SASAI Kenzo; (JP).
NISHIO Teiji; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-227080 14.10.2011 JP
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM, AND CHARGED PARTICLE BEAM IRRADIATION PLANNING METHOD
(FR) SYSTÈME D'IRRADIATION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, ET PROCÉDÉ DE PLANIFICATION D'IRRADIATION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線照射システム及び荷電粒子線照射計画方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a charged particle beam irradiation system and a charged particle beam irradiation planning method, whereby it is possible to plan the effective irradiation of charged particle beams. This charged particle beam irradiation system (1) is provided with: an irradiation unit (13) for irradiating a tumor (A) with charged particle beams (R); a radiation resistance state measuring unit (21) and a PET device (14) for measuring the radiation resistance state of the tumor (A); a radiation resistance region separating unit (22) for separating the tumor (A) into multiple radiation resistance regions (T1, T2) on the basis of the measuring result of the radiation resistance state; a radiation dose computing unit (23) for computing the planned radiation dose amount of the charged particle beams for each radiation resistance region; and a radiation plan correcting unit (24) for planning the irradiation of charged particle beams (R) with regard to the tumor (A) on the basis of the computing result of the radiation dose computing unit (23).
(FR)L'invention concerne un système d'irradiation de faisceau de particules chargées et un procédé de planification d'irradiation de faisceau de particules chargées, au moyen duquel il est possible de planifier l'irradiation efficace de faisceaux de particules chargées. Ce système d'irradiation de faisceau de particules chargées (1) est pourvu : d'une unité d'irradiation (13) afin d'irradier une tumeur (A) avec des faisceaux de particules chargées (R) ; d'une unité de mesure d'état de résistance au rayonnement (21) et un dispositif PET (14) pour mesurer l'état de résistance au rayonnement de la tumeur (A) ; d'une unité de séparation de région de résistance au rayonnement (22) afin de séparer la tumeur (A) en de multiples régions de résistance au rayonnement (T1, T2) sur la base du résultat de la mesure de l'état de résistance au rayonnement ; d'une unité de calcul de dose de rayonnement (23) afin de calculer la dose de rayonnement planifiée des faisceaux de particules chargées pour chaque région de résistance au rayonnement ; d'une unité de correction de plan de rayonnement (24) afin de planifier l'irradiation de faisceaux de particules chargées (R) par rapport à la tumeur (A) sur la base du résultat du calcul de l'unité de calcul de dose de rayonnement (23).
(JA)効果的な荷電粒子線の照射を計画することができる荷電粒子線照射システム及び荷電粒子線照射計画方法を提供する。本発明に係る荷電粒子線照射システム1は、腫瘍Aに荷電粒子線Rを照射する照射部13と、腫瘍Aの放射線耐性状況を測定する放射線耐性状況測定部21及びPET装置14と、放射線耐性状況の測定結果に基づいて、腫瘍Aを複数の放射線耐性領域T1,T2に分ける放射線耐性領域分け部22と、複数の放射線耐性領域ごとに、荷電粒子線の照射線量の計画値を演算する線量演算部23と、線量演算部23の演算結果に基づいて、腫瘍Aに対する荷電粒子線Rの照射を計画する照射計画修正部24と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)