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1. (WO2013054365) PIQUAGE DISSOCIATIF INDUIT PAR LASER POUR LA SYNTHÈSE DU CARBONE ET DE NANOCOMPOSITES À BASE DE CARBONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/054365    N° de la demande internationale :    PCT/IN2012/000681
Date de publication : 18.04.2013 Date de dépôt international : 12.10.2012
CIB :
C01B 31/02 (2006.01)
Déposants : COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH [IN/IN]; Anusandhan Bhawan Rafi Marg New Delhi 110001 (IN) (Tous Sauf US).
GOKHALE, Rohan Rajeev [IN/IN]; (IN) (US only).
OGALE, Satishchandra Balkrishna [IN/IN]; (IN) (US only)
Inventeurs : GOKHALE, Rohan Rajeev; (IN).
OGALE, Satishchandra Balkrishna; (IN)
Mandataire : DUTT, Ranjna Mehta; Remfry & Sagar Attorneys at Law Remfry House at Millennium Plaza Sector 27, Gurgaon New-Delhi 122 009 (IN)
Données relatives à la priorité :
2959/DEL/2011 14.10.2011 IN
Titre (EN) LASER-INDUCED DISSOCIATIVE STITCHING (LDS) FOR SYNTHESIS OF CARBON AND CARBON BASED NANOCOMPOSITES
(FR) PIQUAGE DISSOCIATIF INDUIT PAR LASER POUR LA SYNTHÈSE DU CARBONE ET DE NANOCOMPOSITES À BASE DE CARBONE
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein is a process for the synthesis of carbon and carbon based nanocomposites comprising Laser-induced Dissociative Stitching (LDS) from liquid halogen containing aromatic compounds at room temperature.
(FR)L'invention concerne un procédé de synthèse du carbone et de nanocomposites à base de carbone, comprenant le piquage dissociatif induit par laser (Laser Induced Dissociative Stitching) à partir de composés aromatiques contenant de l'halogène liquide, à température ambiante.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)