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1. (WO2013054117) DISPOSITIFS DE SÉCURITÉ ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/054117    N° de la demande internationale :    PCT/GB2012/052520
Date de publication : 18.04.2013 Date de dépôt international : 11.10.2012
CIB :
G03C 5/08 (2006.01), G03C 5/60 (2006.01), B42D 15/00 (2006.01), B41M 3/14 (2006.01)
Déposants : DE LA RUE INTERNATIONAL LIMITED [GB/GB]; De La Rue House Jays Close Viables Basingstoke Hampshire RG22 4BS (GB)
Inventeurs : LISTER, Adam; (GB)
Mandataire : GILL JENNINGS & EVERY LLP; The Broadgate Tower 20 Primrose Street London Greater London EC2A 2ES (GB)
Données relatives à la priorité :
1117523.9 11.10.2011 GB
Titre (EN) SECURITY DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURE THEREOF
(FR) DISPOSITIFS DE SÉCURITÉ ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)A method of manufacturing at least part of a security device is disclosed. The method comprises: conveying a substrate web comprising a photosensitive film along a transport path, the photosensitive film being adapted to exhibit an increase in optical density upon exposure to radiation of a predetermined wavelength and concurrent or subsequent heating, the increase in optical density being due to the formation of bubbles within the photosensitive film; exposing the photosensitive film to radiation of the predetermined wavelength through a mask, wherein the mask comprises a predetermined pattern of regions which are substantially opaque to radiation of the predetermined wavelength and at least semi-transparent to radiation of the predetermined wavelength, respectively; during the exposure, moving the mask alongside the substrate web along at least a portion of the transport path at substantially the same speed as the substrate web, such that there is substantially no relative movement between the mask and the substrate web; and heating the substrate web comprising the exposed photosensitive film. In this way, regions of the photosensitive film exposed to the radiation of the predetermined wavelength undergo an increase in optical density such that the photosensitive film displays a reproduction of the predetermined pattern. Security devices are also disclosed.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication au moins partiellement d'un dispositif de sécurité. Le procédé consiste à acheminer une bande de substrat comprenant un film photosensible le long d'une voie de transport, le film photosensible étant conçu pour présenter une augmentation de la densité optique lors de l'exposition à un rayonnement d'une longueur d'onde prédéterminée et simultanément ou après chauffage, l'augmentation de la densité optique étant due à la formation de bulles à l'intérieur du film photosensible ; exposer le film photosensible au rayonnement d'une longueur d'onde prédéterminée dans un masque, le masque comprenant un motif prédéterminé constitué de régions qui sont sensiblement opaques au rayonnement de longueur d'onde prédéterminée et au moins semi-transparentes au rayonnement de longueur d'onde prédéterminée, respectivement ; au cours de l'exposition, déplacer le masque le long de la bande de substrat le long d'au moins une partie de la voie de transport à sensiblement la même vitesse que celle de la bande du substrat, de sorte qu'il n'y ait sensiblement pas de mouvement relatif entre le masque et la bande de substrat ; et chauffer la bande de substrat comprenant le film photosensible exposé. De cette façon, des régions du film photosensible exposé au rayonnement de la longueur d'onde prédéterminée subissent une augmentation de la densité optique de telle sorte que le film photosensible présente une reproduction du motif prédéterminé. L'invention concerne également des dispositifs de sécurité.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)