WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2013052878) PASSIVATION À L'HYDROGÈNE DE CRISTAUX OPTIQUES NON LINÉAIRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/052878    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/059072
Date de publication : 11.04.2013 Date de dépôt international : 05.10.2012
CIB :
G02F 1/35 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : CHUANG, Yung-ho; (US).
DRIBINSKI, Vladimir; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; KLA-Tencor Corp. Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Données relatives à la priorité :
61/544,425 07.10.2011 US
13/488,635 05.06.2012 US
Titre (EN) HYDROGEN PASSIVATION OF NONLINEAR OPTICAL CRYSTALS
(FR) PASSIVATION À L'HYDROGÈNE DE CRISTAUX OPTIQUES NON LINÉAIRES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention includes an expcssure chamber configured to contain a passivating gas having a selected hydrogen concentration, the exposure chamber further configured to contain at least one NLO crystal for exposure to the passivating gas within the chamber, a passivating gas source fluldicaUy connected to the exposure chamber, the passivating gas source configured to supply passivating gas to an interior portion of the exposure chamber, and a substrate configured to hold the NLO crystal within the chamber,, the substrate further configured to maintain a temperature of the NLO crystal at or near a selected temperature, the selected temperature being below a melting temperature of the NLO crystal.
(FR)La présente invention comprend une chambre d'exposition conçue pour contenir un gaz passivant ayant une concentration en hydrogène choisie, la chambre d'exposition étant en outre conçue pour contenir au moins un cristal optique non linéaire (NLO) afin d'exposer celui-ci au gaz passivant à l'intérieur de la chambre, une source de gaz passivant en communication fluidique avec la chambre d'exposition, la source de gaz passivant étant conçue pour apporter du gaz passivant vers une partie intérieure de la chambre d'exposition, et un substrat conçu pour porter le cristal NLO à l'intérieur de la chambre, le substrat étant en outre conçu pour maintenir une température du cristal NLO à une température choisie ou à proximité de celle-ci, la température choisie étant au-dessous d'une température de fusion du cristal NLO.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)