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1. (WO2013051789) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN RETARDATEUR DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/051789    N° de la demande internationale :    PCT/KR2012/007127
Date de publication : 11.04.2013 Date de dépôt international : 05.09.2012
CIB :
G02B 27/22 (2006.01)
Déposants : DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. [KR/KR]; 740-30, Shinheung-dong, Iksan-si Jeollabuk-do 570-977 (KR) (Tous Sauf US).
CHOI, Bong Jin [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Yong Hwan [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
HA, Kyoung Su [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : CHOI, Bong Jin; (KR).
KIM, Yong Hwan; (KR).
HA, Kyoung Su; (KR)
Mandataire : LEE, Joon Ho; (Seocho-dong, Daerim Bldg.) 6th Fl. 53, Seochojungang-ro, Seocho-gu Seoul 137-953 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2011-0101144 05.10.2011 KR
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING A PATTERN RETARDER
(FR) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN RETARDATEUR DE MOTIF
(KO) 패턴 리타더의 제조 방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for manufacturing a pattern retarder. The method for manufacturing the pattern retarder includes: a first step of emitting light onto a first pattern area of an alignment layer formed on a film to align the first pattern area in a predetermined direction; and a second step of emitting light onto at least one portion of the first pattern area aligned in the predetermined direction and onto a second pattern area of the alignment layer to align the second pattern area in a direction different from the aligned direction of the first pattern area without influencing the aligned direction of at least one portion of the first pattern area. Thus, pattern retarders having a uniform width and a clear interface may be quickly and continuously manufactured.
(FR)La présente invention porte sur un procédé pour fabriquer un retardateur de motif. Le procédé pour fabriquer le retardateur de motif comprend : une première étape consistant à émettre de la lumière sur une première zone de motif d'une couche d'alignement formée sur un film pour aligner la première zone de motif dans une direction prédéterminée ; et une seconde étape pour émettre de la lumière sur au moins une partie de la première zone de motif alignée dans la direction prédéterminée sur une seconde zone de motif de la couche d'alignement afin d'aligner la seconde zone de motif dans une direction différente de la direction alignée de la première zone de motif sans influencer la direction alignée d'au moins une partie de la première zone de motif. Par conséquent, des retardateurs de motif ayant une largeur uniforme et une interface nette peuvent être fabriqués rapidement et de façon continue.
(KO)본 발명은 패턴 리타더의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 필름 상에 형성된 배향막의 제1 패턴 영역에 광을 조사하여 일정 방향으로 배향시키는 제1 단계; 및 일정 방향으로 배향된 제1 패턴 영역의 적어도 일부와 배향막의 제2 패턴 영역에 광을 조사하여 제1 패턴 영역의 적어도 일부의 배향 방향에는 영향을 주지 않으면서 제2 패턴 영역을 제1 패턴 영역의 배향 방향과 다른 방향으로 배향시키는 제 2단계를 포함함으로써 균일한 폭과 뚜렷한 경계 면을 갖는 패턴 리타더를 빠른 속도로 연속적으로 생산할 수 있는 패턴 리타더의 제조 방법에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)