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1. (WO2013051434) DISPOSITIF D'ÉMISSION D'IONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/051434    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/074610
Date de publication : 11.04.2013 Date de dépôt international : 26.09.2012
CIB :
H01T 23/00 (2006.01), H01T 19/04 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAMOTO, Naoko; (US only).
EZAKI, Tetsuya; (US only).
KAWAI, Masanori; (US only).
SHIRAYAMA, Yasuhisa; (US only)
Inventeurs : YAMAMOTO, Naoko; .
EZAKI, Tetsuya; .
KAWAI, Masanori; .
SHIRAYAMA, Yasuhisa;
Mandataire : YONETSU, Kiyoshi; c/o SHARP KABUSHIKI KAISHA, 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi Osaka 5458522 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-218882 03.10.2011 JP
Titre (EN) ION EMISSION DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ÉMISSION D'IONS
(JA) イオン発生装置
Abrégé : front page image
(EN)To alleviate mutual interference between electrical fields which a plurality of ion emission apparatuses emit, and to emit a high concentration of ions, an ion emission device comprises a duct (40) which forms a flow path of a gaseous medium, a first ion emission apparatus (15) which emits ions from a first region of the wall of the duct, and a second ion emission apparatus (25) which emits ions from a second region of the wall of the duct. The ion emission device further comprises an electrical field alleviation unit (45) which divides the flow path space which includes a region between the first region and the second region into a first ion emission apparatus side and a second ion emission apparatus side. The electrical field alleviation unit is configured from a conductive material for making the electrical field alleviation unit equipotential.
(FR)Selon la présente invention, pour atténuer une interférence mutuelle entre des champs électriques qu'une pluralité d'appareils d'émission d'ions émet, et pour émettre une concentration élevée d'ions, un dispositif d'émission d'ions comprend une conduite (40) qui forme un trajet d'écoulement d'un milieu gazeux, un premier appareil d'émission d'ions (15) qui émet des ions depuis une première région de la paroi de la conduite et un second appareil d'émission d'ions (25) qui émet des ions depuis une seconde région de la paroi de la conduite. Le dispositif d'émission d'ions comprend en outre une unité d'atténuation de champ électrique (45) qui divise l'espace de trajet d'écoulement qui comprend une région entre la première région et la seconde région en un côté premier appareil d'émission d'ions et un côté second appareil d'émission d'ions. L'unité d'atténuation de champ électrique est configurée à partir d'une matière conductrice pour rendre équipotentielle l'unité d'atténuation de champ électrique.
(JA) 複数のイオン発生器が発生させる電場の相互干渉を抑制し、高濃度のイオンを発生させるために、気体媒体の流路を形成するダクト(40)と、ダクトの壁面の第1領域からイオンを発生させる第1イオン発生器(15)と、ダクトの壁面の第2領域からイオンを発生させる第2イオン発生器(25)とを有するイオン発生装置であって、第1領域と第2領域の間の領域を含む流路空間を、第1イオン発生器側と第2イオン発生器側に分ける電場抑制部(45)を有する。そして、電場抑制部は、該電場抑制部を等電位とするための導電性部材から構成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)