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1. (WO2013051420) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DU VISAGE ET APPAREIL DE TRAITEMENT DU VISAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/051420    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/074458
Date de publication : 11.04.2013 Date de dépôt international : 25.09.2012
CIB :
A61N 1/44 (2006.01), A61H 33/12 (2006.01), F24F 6/04 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-Cho, Abeno-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5458522 (JP)
Inventeurs : NAKAMURA Misaki;
Mandataire : SANO Shizuo; Tenmabashi-Yachiyo Bldg. Bekkan, 2-6, Tenmabashi-Kyomachi, Chuo-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5400032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-220300 04.10.2011 JP
Titre (EN) FACIAL TREATMENT METHOD AND FACIAL TREATMENT APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DU VISAGE ET APPAREIL DE TRAITEMENT DU VISAGE
(JA) 美顔方法及び美顔器
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is provided with an ion generation device (10) for generating positive ions and negative ions by electrical discharge in the air, and a humidification unit (23) for humidifying air taken in from the surroundings; positive ions and negative ions are included in the air humidified by the humidification unit (23), and are irradiated toward the skin surface from an air outlet (6).
(FR)La présente invention concerne un dispositif de génération d'ions (10) pour générer des ions positifs et des ions négatifs par décharge électrique dans l'air, et une unité d'humidification (23) pour humidifier l'air prélevé dans l'environnement ; les ions positifs et les ions négatifs sont inclus dans l'air humidifié par l'unité d'humidification (23), et sont irradiés vers la surface de la peau par un orifice de sortie d'air (6).
(JA) 大気中での放電により正イオン及び負イオンを発生するイオン発生装置10と、周囲から取り込まれた空気を加湿する加湿部23とを備え、加湿部23により加湿された空気中に正イオン及び負イオンを含み、吹出口6から肌表面に向けて照射した。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)