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1. (WO2013050842) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/050842    N° de la demande internationale :    PCT/IB2012/001717
Date de publication : 11.04.2013 Date de dépôt international : 05.09.2012
CIB :
H01S 3/23 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G02F 1/03 (2006.01), H01S 3/00 (2006.01)
Déposants : GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400 Yokokurashinden Oyama-shi Tochigi 3238558 (JP) (Tous Sauf US).
NAGANO, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WADA, Yasunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YANAGIDA, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WAKABAYASHI, Osamu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAGANO, Hitoshi; (JP).
WADA, Yasunori; (JP).
YANAGIDA, Tatsuya; (JP).
WAKABAYASHI, Osamu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-220911 05.10.2011 JP
2012-135472 15.06.2012 JP
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD FOR GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
Abrégé : front page image
(EN)A system (11A) for generating extreme ultraviolet light, in which a target material (27) inside a chamber (2A) is irradiated with a laser beam to be turned into plasma, includes a first laser apparatus (40) configured to output a first laser beam (41), a second laser apparatus (3A) configured to output a second laser beam having a pedestal and a peak portion, and a controller (5A)connected to the first and second laser apparatuses and configured to cause the first laser beam to be outputted first, the pedestal to be outputted after the first laser beam, and the peak portion having higher energy than the pedestal to be outputted after the pedestal.
(FR)Cette invention concerne un système (11A) de génération de lumière ultraviolette extrême, dans lequel un matériau cible (27) disposé dans une chambre est irradié par un faisceau laser afin d'être transformé en plasma. Ledit système comprend un premier appareil laser (40) conçu pour émettre un premier faisceau laser (41), un second appareil laser (3A) conçu pour émettre un second faisceau laser présentant une base et une partie crête, et un contrôleur (5A) connecté aux premier et second appareils laser et conçu pour générer d'abord l'émission du premier faisceau laser, puis l'émission de la base après celle du premier faisceau laser, et celle de la partie crête, avant une énergie supérieure à celle de la base, après la base.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)