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1. (WO2013050243) PORTE-SUBSTRAT, APPAREIL DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ D'UTILISATION D'UN PORTE-SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/050243    N° de la demande internationale :    PCT/EP2012/068386
Date de publication : 11.04.2013 Date de dépôt international : 19.09.2012
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL)
Inventeurs : GILISSEN, Noud; (NL).
SIJBEN, Anko; (NL).
CORNELISSEN, Bas; (NL).
NOTENBOOM, Arnoud; (NL).
VAN DER WILK, Ronald; (NL).
SCHMITZ, Roger, Wilhelmus, Antonius, Henricus; (NL).
WILL, Manon, Elise; (NL)
Mandataire : SLENDERS, Peter; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/544,039 06.10.2011 US
Titre (EN) CHUCK, LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF USING A CHUCK
(FR) PORTE-SUBSTRAT, APPAREIL DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ D'UTILISATION D'UN PORTE-SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A chuck, chuck control system, lithographic apparatus and method of using a chuck are disclosed. In an embodiment, there is provided a chuck (43) for use in holding a patterning device (MA) or a substrate (W) onto a supporting table (MT, WT) of a lithography apparatus (100) by electrostatic force, in which the patterning device is for imparting a radiation beam (B) with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, and the substrate is for receiving the patterned radiation beam; said chuck comprising: a dielectric member (45); a temperature conditioning fluid channel (48) formed within the chuck; a drive electrode (40, 42) for applying a potential difference between the drive electrode and the patterning device or substrate across the dielectric member in order to electrostatically attract the patterning device or substrate towards the drive electrode; and a first shield electrode (60) for reducing or preventing the development of an electric field across temperature conditioning fluid in the temperature conditioning fluid channel due to a voltage applied to the drive electrode, in order to reduce or prevent electrolysis in the fluid.
(FR)La présente invention concerne un porte-substrat, un système de commande de porte-substrat, un appareil de lithographie et un procédé d'utilisation d'un porte-substrat. Un mode de réalisation intègre un porte-substrat (43) permettant de maintenir un dispositif de formation de motif (MA) ou un substrat (W) sur une table de fixation (MT, WT) d'un appareil de lithographie (100) sous l'effet d'une force électrostatique. Le dispositif de formation de motif est conçu pour conférer un motif à un faisceau de rayonnement (B) en coupe transversale de manière à former un faisceau de rayonnement à motif. Le substrat est conçu pour recevoir le faisceau de rayonnement à motif. Ledit porte-substrat comprend : un élément diélectrique (45); un canal de fluide de conditionnement en température (48) formé dans le porte-substrat; une électrode de commande (40, 42) permettant d'appliquer une différence de potentiel entre l'électrode de commande et le dispositif de formation de motif ou le substrat sur l'ensemble de l'élément diélectrique afin d'attirer de manière électrostatique le dispositif de formation de motif ou le substrat vers l'électrode de commande; et une première électrode écran (60) destinée à réduire ou empêcher le développement d'un champ électrique dans le fluide de conditionnement en température du canal de fluide de conditionnement en température à cause d'une tension appliquée à l'électrode de commande, afin de réduire ou d'éviter une électrolyse dans le fluide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)