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1. (WO2013048781) MICRO-USINAGE LASER D'ÉLÉMENTS OPTIQUES DANS UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/048781    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/055393
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 14.09.2012
CIB :
G02B 6/00 (2006.01), F21V 8/00 (2006.01), G02F 1/13357 (2006.01)
Déposants : RAMBUS INC. [US/US]; 1050 Enterprise Way Suite 700 Sunnyvale, California 94089 (US) (Tous Sauf US).
MCCOLLUM, Timothy, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
HIDE, Fumitomo [JP/US]; (US) (US Seulement).
HARDCASTLE, Ian [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MCCOLLUM, Timothy, A.; (US).
HIDE, Fumitomo; (US).
HARDCASTLE, Ian; (US)
Mandataire : GALIN, M., David; Renner, Otto, Boisselle & Sklar, LLP 1621 Euclid Avenue 19th Floor Cleveland, Ohio 44115 (US)
Données relatives à la priorité :
61/540,082 28.09.2011 US
Titre (EN) LASER MICROMACHINING OPTICAL ELEMENTS IN A SUBSTRATE
(FR) MICRO-USINAGE LASER D'ÉLÉMENTS OPTIQUES DANS UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)Optical elements with small increments in average density are formed in a substrate by laser micromachining using a variable aperture and a pattern mask set of pattern masks each having of shape-defining elements whose density differs among the pattern masks in first density increments. A laser light beam passes through a combined mask formed by the variable aperture and one pattern mask selected from the pattern mask set. The variable aperture controls beam size and the pattern mask spatially modulates its intensity. A focusing element focuses light from the combined mask on a small averaging region of the substrate. Different combinations of the size of the aperture mask and the selected pattern mask are used in combination at respective averaging regions of the substrate. The resulting average densities of the optical elements vary among the averaging regions in increments that are small compared to the first density increments.
(FR)Des éléments optiques à petits incréments de densité moyenne sont formés dans un substrat par micro-usinage laser à l'aide d'une ouverture variable et d'un ensemble de masques de motif ayant chacun des éléments de définition de forme dont la densité diffère entre les masques de motif de premiers incréments de densité. Un faisceau de lumière laser light traverse un masque combiné formé par l'ouverture variable et un masque de motif sélectionné dans l'ensemble de masques de motif. L'ouverture variable commande la taille du faisceau et le masque de motif module spatialement son intensité. Un élément de concentration concentre la lumière provenant du masque combiné sur une petite région de moyenne du substrat. Différentes combinaisons de la taille du masque d'ouverture et du masque de motif sélectionné sont utilisées en association au niveau des régions de moyenne respectives du substrat. Les densités moyennes obtenues des éléments optiques varient entre les régions de moyenne par des incréments qui sont petits par rapport aux premiers incréments de densité.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)