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1. (WO2013048069) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIF, FILM ISOLANT ET OLED FORMÉS À L'AIDE DE CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/048069    N° de la demande internationale :    PCT/KR2012/007643
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 24.09.2012
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
Déposants : KOLON INDUSTRIES, INC. [KR/KR]; 1-23 Byeoryang-dong, Gwacheon-si Gyeongg-do 427-709 (KR) (Tous Sauf US).
PARK, Se Hyung [KR/KR]; (KR) (US only).
KIM, Byoung Kee [KR/KR]; (KR) (US only)
Inventeurs : PARK, Se Hyung; (KR).
KIM, Byoung Kee; (KR)
Mandataire : KONG, Min Ho; 10th floor, BYC Building 648-1, Yeoksam-dong Gangnam-gu, Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2011-0100307 30.09.2011 KR
Titre (EN) POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND INSULATING FILM AND OLED FORMED USING THE SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIF, FILM ISOLANT ET OLED FORMÉS À L'AIDE DE CELLE-CI
Abrégé : front page image
(EN)This invention relates to a positive-type photosensitive resin composition which includes an alkali soluble polyimide resin, a diazide-based photosensitive compound and a sensitivity enhancer, and in which the use of a polyimide resin wherein the degree of imidization of imidized polyimide resin is 50 ~ 75% exhibits a light transmittance of 95% or more in the visible light wavelength range (400 ~ 650 nm) as well as high developability in a patterning process, and to an insulating film and an OLED formed using the same.
(FR)Cette invention concerne une composition de résine photosensible de type positif qui contient une résine polyimide soluble dans un alcali, un composé photosensible à base de diazoture et un activateur de sensibilité. La résine polyimide utilisée qui a un degré d'imidation de résine polyimide imidisée de 50 ~ 75 % fait preuve d'une transmission de la lumière de 95 % ou plus dans la plage des longueurs d'ondes de la lumière visible (400 ~ 650 nm) et d'une aptitude à la révélation élevée dans un procédé de formation de motifs. Un film isolant et une OLED formés à l'aide de ladite composition sont également décrits.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)