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1. (WO2013047712) MOULE DE NANOIMPRESSION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU MOULE DE NANOIMPRESSION, PROCÉDÉ DE NANOIMPRESSION UTILISANT LE MOULE DE NANOIMPRESSION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRATS À MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/047712    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/074996
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 21.09.2012
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), B29C 33/58 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : NAKAMURA, Kazuharu; (JP).
WAKAMATSU, Satoshi; (JP)
Mandataire : YANAGIDA, Masashi; YANAGIDA & Associates, 7F, Shin-Yokohama KS Bldg., 3-18-3, Shin-Yokohama, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2220033 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-216569 30.09.2011 JP
Titre (EN) NANOIMPRINTING MOLD, METHOD FOR PRODUCING THE NANOIMPRINTING MOLD, NANOIMPRINTING METHOD USING THE NANOIMPRINTING MOLD, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATES
(FR) MOULE DE NANOIMPRESSION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU MOULE DE NANOIMPRESSION, PROCÉDÉ DE NANOIMPRESSION UTILISANT LE MOULE DE NANOIMPRESSION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRATS À MOTIFS
Abrégé : front page image
(EN)The region in which resist flows during nanoimprinting is restricted without employing a mesa type substrate. A nanoimprinting mold includes: a mold main body (12) having a fine pattern (13) of protrusions and recesses on a surface thereof; and a mold release layer (14) formed on the surface of the mold main body (12). The mold release layer (14) is formed within a mold release layer forming region (R2), which is a region of the mold main body (12) that includes a patterned region (R1) where the pattern (13) of protrusions and recesses is formed and has an outer edge (E2) positioned outside the outer edge (E1) of the patterned region (R1). An outer peripheral mold release layer (14a) has a thickness distribution in which the thickness of the outer peripheral mold release layer (14a) is locally maximal at positions outside the outer edge (E1) of the patterned region (R1), substantially continuously along the entire periphery.
(FR)Selon l'invention, la région dans laquelle un agent de réserve s'écoule durant une nanoimpression est restreinte sans employer un substrat du type mesa. Un moule de nanoimpression comprend : un corps principal de moule (12) ayant un motif fin (13) de saillies et de renfoncements sur une surface de celui-ci; et une couche de démoulage (14) formée sur la surface du corps principal de moule (12). La couche de démoulage (14) est formée à l'intérieur d'une région de formation de couche de démoulage (R2), qui est une région du corps principal de moule (12) qui comprend une région à motifs (R1) dans laquelle le motif (13) de saillies et de renfoncements est formé et a un bord extérieur (E2) positionné à l'extérieur du bord extérieur (E1) de la région à motifs (R1). Une couche de démoulage périphérique extérieure (14a) possède une distribution d'épaisseur dans laquelle l'épaisseur de la couche de démoulage périphérique extérieure (14a) est localement maximale à des positions situées à l'extérieur du bord extérieur (E1) de la région à motifs (R1), d'une manière sensiblement continue le long de la périphérie entière.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)