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1. (WO2013047688) LENTILLE ÉLECTROSTATIQUE ET DISPOSITIF DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/047688    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/074947
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 27.09.2012
CIB :
H01J 37/12 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Déposants : KYOCERA CORPORATION [JP/JP]; 6, Takeda Tobadono-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6128501 (JP)
Inventeurs : NOGUCHI, Yukio; (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-216760 30.09.2011 JP
Titre (EN) ELECTROSTATIC LENS AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE USING SAME
(FR) LENTILLE ÉLECTROSTATIQUE ET DISPOSITIF DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES L'UTILISANT
(JA) 静電レンズおよびそれを用いた荷電粒子ビーム装置
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides an electrostatic lens that can support a request to increase throughput while increasing the precision of radiating an electron beam. One embodiment of the electrostatic lens (4) is provided with a substrate (6) having: an insulating plate (10) to which a plurality of first through-holes (T1) through each of which an electron beam (E) passes are formed; a plurality of electrodes (11) formed at the inner wall of each of the plurality of first through-holes (T1); and a plurality of wiring (12) formed on the insulating plate (10) and electrically connected to each of the electrodes (11). The plurality of electrodes (11) are electrically independent from each other.
(FR)La présente invention porte sur une lentille électrostatique qui peut prendre en charge une demande d'augmentation de débit tout en augmentant la précision de rayonnement d'un faisceau d'électrons. Un mode de réalisation de la lentille électrostatique (4) comporte un substrat (6) ayant : une plaque isolante (10) dans laquelle est formée une pluralité de premiers trous traversants (T1) à travers chacun desquels un faisceau d'électrons (E) passe ; une pluralité d'électrodes (11) formées à la paroi intérieure de chacun de la pluralité de premiers trous traversants (T1) ; et une pluralité de câblages (12) formés sur la plaque isolante (10) et électriquement reliés à chacune des électrodes (11). La pluralité d'électrodes (11) sont électriquement indépendantes les unes des autres.
(JA)本発明は、電子線の照射精度を高めつつ、スループットを高める要求に応える静電レンズを提供するものである。本発明の一形態に係る静電レンズ(4)は、電子線(E)がそれぞれ通過する複数の第1スルーホール(T1)が形成された絶縁板(10)と、複数の第1スルーホール(T1)それぞれの内壁に形成された複数の電極(11)と、絶縁板(10)上に形成され、電極(11)それぞれに電気的に接続した複数の配線(12)とを有する基板(6)を備え、複数の電極(11)は、電気的に互いに独立している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)