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1. (WO2013047622) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/047622    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/074791
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 26.09.2012
CIB :
H05B 33/26 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/12 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
TANAKA, Tetsunori; (US only).
OKAZAKI, Shoji; (US only).
KATSUI, Hiromitsu; (US only).
SONODA, Tohru; (US only)
Inventeurs : TANAKA, Tetsunori; .
OKAZAKI, Shoji; .
KATSUI, Hiromitsu; .
SONODA, Tohru;
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-218360 30.09.2011 JP
Titre (EN) DISPLAY DEVICE AND DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 表示装置及び表示装置の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a display device that is less likely to reflect outside light and has a large aperture ratio. A light-emitting section (30) is provided inside a BM aperture section (53) in a plan view, said light-emitting section being defined by an edge cover (25) that is provided on the edge of a reflecting electrode (21). In addition, a low-reflection treatment is applied to a region around the reflecting electrode (21) in order to form a low-reflection region (212) where incident outside light is less likely to be reflected. Furthermore, in the plan view, a region of the reflecting electrode (21) formed inside the BM aperture section (53) but not used for the light-emitting section (30) constitutes the low-reflection region (212). Consequently, the provided display device prevents reflection of outside light and has a large aperture ratio.
(FR)L'invention porte sur un dispositif d'affichage qui est moins susceptible de refléter la lumière extérieure et possède un grand rapport d'ouverture. Une section d'émission de lumière (30) est placée à l'intérieur d'une section d'ouverture BM (53) en vue plane, ladite section d'émission de lumière étant délimitée par un revêtement de bord (25) qui est placé sur le bord d'une électrode réfléchissante (21). De plus, un traitement pour faible réflexion est appliqué à une région autour de l'électrode réfléchissante (21) de manière à former une région à faible réflexion (212) dans laquelle de la lumière extérieure incidente est moins susceptible d'être réfléchie. En outre, en vue plane, une région de l'électrode réfléchissante (21) formée à l'intérieur de la section d'ouverture BM (53) mais non utilisée pour la section d'émission de lumière (30) constitue la région à faible réflexion (212). En conséquence, le dispositif d'affichage décrit prévient une réflexion de la lumière extérieure et possède un grand rapport d'ouverture.
(JA) 外光を反射し難く、かつ開口率の大きい表示装置を提供する。平面視において、反射電極(21)の端部に設けられるエッジカバー(25)によって規定される発光部(30)を、BM開口部(53)の内側に設ける。また、反射電極(21)の周囲を低反射処理し、外光が入射されても反射し難い低反射領域(212)とする。さらに、反射電極(21)は、平面視において、BM開口部(53)であって、発光部(30)でない領域は、低反射領域(212)であることとする。これにより、外光の反射を防ぎ、かつ開口率の大きい表示装置を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)