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1. (WO2013047117) COMPOSITION PHOTORÉSISTANTE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF PROTECTEUR, ET POLYMÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/047117    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/072513
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 04.09.2012
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), C08F 20/10 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (Tous Sauf US).
SATO Mitsuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SATO Mitsuo; (JP)
Mandataire : AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-215692 29.09.2011 JP
Titre (EN) PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER
(FR) COMPOSITION PHOTORÉSISTANTE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF PROTECTEUR, ET POLYMÈRE
(JA) フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び重合体
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is a photoresist composition containing the following: a polymer (A) that has a constitutional unit (I) represented by diagram (1); and an acid generator (B). In diagram (1), R1, R2, R4, and R6 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a hydroxy group, or a C1-20 monovalent organic group; either R3 and R5 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a hydroxy group, or a C1-20 monovalent organic group or R3 and R5 are combined and, together with the carbon atoms bound thereto, represent a C3-10 cyclic group; and R7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
(FR)La présente invention concerne une composition photorésistante contenant : un polymère (A) qui a une unité constitutionnelle (I) représentée par le schéma (1) ; et un générateur d'acide (B). Dans le schéma (1), R1, R2, R4, et R6 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydroxy, ou un groupe organique monovalent C1-20 ; soit R3 et R5 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydroxy, ou un groupe organique monovalent C1-20, soit R3 et R5 sont combinés et, ensemble avec les atomes de carbone qui y sont liés, représentent un groupe cyclique C3-10 ; et R7 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle.
(JA) 本発明は、[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。式(1)中、R、R、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基又は炭素数1~20の1価の有機基である。R及びRは、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、ヒドロキシ基若しくは炭素数1~20の1価の有機基であるか、又はR及びRが互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される炭素数3~10の環状基を表す。Rは、水素原子又はメチル基である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)