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1. (WO2013047091) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN FAISCEAU ÉLECTRONIQUE OU SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME, FILM DE RÉSIST, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE LES UTILISANT ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/047091    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/072285
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 28.08.2012
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (Tous Sauf US).
TSUBAKI, Hideaki; (US Seulement).
TAKIZAWA, Hiroo; (US Seulement).
KAWABATA, Takeshi; (US Seulement)
Inventeurs : TSUBAKI, Hideaki; .
TAKIZAWA, Hiroo; .
KAWABATA, Takeshi;
Mandataire : TAKAMATSU, Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-218549 30.09.2011 JP
Titre (EN) PATTERN-FORMING METHOD, ELECTRON BEAM-SENSITIVE OR EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THEM AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN FAISCEAU ÉLECTRONIQUE OU SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME, FILM DE RÉSIST, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE LES UTILISANT ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A pattern-forming method includes in this order: step (1) of forming a film with an electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition that contains (A) a resin having an acid-decomposable repeating unit and capable of decreasing a solubility of the resin (A) in a developer containing an organic solvent by an action of an acid and (B) a low molecular weight compound capable of generating an acid upon irradiation with an electron beam or extreme ultraviolet radiation and decomposing by an action of an acid to decrease a solubility of the low molecular weight compound (B) in an organic solvent; step (2) of exposing the film with an electron beam or extreme ultraviolet radiation; and step (4) of developing the film with a developer containing an organic solvent after the exposing to form a negative pattern.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un motif qui comprend dans cet ordre : étape (1) de formation d'un film avec une composition de résine sensible à un faisceau électronique ou sensible à un rayonnement ultraviolet extrême, qui contient (A) une résine ayant une unité répétitive décomposable par un acide et capable de diminuer une solubilité de la résine (A) dans un développeur contenant un solvant organique par une action d'un acide et (B) un composé de faible masse moléculaire capable de générer un acide lors de l'irradiation par un faisceau électronique ou un rayonnement ultraviolet extrême et se décomposant par une action d'un acide pour diminuer une solubilité du composé (B) de faible masse moléculaire dans un solvant organique ; étape (2) d'exposition du film à un faisceau électronique ou un rayonnement ultraviolet extrême ; et étape (4) de développement du film avec un développeur contenant un solvant organique après l'exposition pour former un motif négatif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)