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1. (WO2013047072) COMPOSITION DE FORMATION D'UN FILM DE RECOUVREMENT POUR UNE EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSIST
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/047072    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/071919
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 29.08.2012
CIB :
G03F 7/11 (2006.01), C08F 16/24 (2006.01), C08F 18/20 (2006.01), C08F 20/26 (2006.01), C08F 20/58 (2006.01), C08F 28/02 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (Tous Sauf US).
KUSABIRAKI Kazunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HAYAMA Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMA Motoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KUSABIRAKI Kazunori; (JP).
TANAKA Kiyoshi; (JP).
HAYAMA Takahiro; (JP).
SHIMA Motoyuki; (JP)
Mandataire : AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-213522 28.09.2011 JP
2012-080611 30.03.2012 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING OVERCOAT FILM FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION
(FR) COMPOSITION DE FORMATION D'UN FILM DE RECOUVREMENT POUR UNE EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSIST
(JA) 液浸上層膜形成用組成物及びレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is a composition which is for use in forming an overcoat film for immersion exposure and which comprises [A] a polymer component that contains a polymer (A1) and [B] a solvent, said polymer (A1) having structural units (I) that each contain a group represented by formula (1). In formula (1), R1 is an alkali-dissociable group, R2 is a (n+1)-valent linking group, and A is -CO-O-*, -SO2-O-*, an oxygen atom, or -NR3-, with the proviso that a case wherein A is an oxygen atom and the directly-A-bonded moiety of R2 is a carboxyl group or a sulfonyl group is excepted.
(FR)La présente invention concerne une composition qui est destinée à être utilisée dans la formation d'un film de recouvrement pour une exposition par immersion et qui comprend [A] un composant polymère qui contient un polymère (A1) et [B] un solvant, ledit polymère (A1) ayant des unités structurales (I) qui contiennent chacune un groupe représenté par la formule (1). Dans la formule (1), R1 représente un groupe dissociable sous l'action d'un alcali, R2 représente un groupe de liaison (n+1)-valent et A représente -CO-O-*, - SO2-O-*, un atome d'oxygène ou - NR3-, à la condition qu'un cas dans lequel A représente un atome d'oxygène et la fraction directement liée à A de R2 représente un groupe carboxyle ou un groupe sulfonyle, est excepté.
(JA) 本発明は、[A]重合体(A1)を含む重合体成分、及び[B]溶媒を含有し、重合体(A1)が、下記式(1)で表される基を含む構造単位(I)を有する液浸上層膜形成用組成物である。下記式(1)中、Rは、アルカリ解離性基である。Rは、(n+1)価の連結基である。Aは、-CO-O-*、-SO-O-*、酸素原子又は-NR-である。Aが酸素原子であるとき、RのAに直結する部位が、カルボニル基又はスルホニル基となる場合はない。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)