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1. (WO2013046975) MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET MODULE MEMBRANAIRE DE SÉPARATION DE GAZ UTILISANT CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/046975    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/070680
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 14.08.2012
CIB :
B01D 69/02 (2006.01), B01D 67/00 (2006.01), B01D 69/10 (2006.01), B01D 69/12 (2006.01), B01D 71/02 (2006.01), B01D 71/10 (2006.01), B01D 71/52 (2006.01), B01D 71/64 (2006.01), B01D 71/70 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (Tous Sauf US).
ISHIZUKA, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ITOU, Shigehide [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHIZUKA, Kenichi; (JP).
ITOU, Shigehide; (JP)
Mandataire : IIDA, Toshizo; ISHII Bldg. 3F, 1-10, Shimbashi 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1050004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-217159 30.09.2011 JP
Titre (EN) GAS SEPARATION MEMBRANE, MANUFACTURING METHOD FOR SAME, AND GAS SEPARATION MEMBRANE MODULE USING SAME
(FR) MEMBRANE DE SÉPARATION DE GAZ, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET MODULE MEMBRANAIRE DE SÉPARATION DE GAZ UTILISANT CELLE-CI
(JA) ガス分離膜、その製造方法、それを用いたガス分離膜モジュール
Abrégé : front page image
(EN)This gas separation membrane is provided with a support body and a separation layer formed from a resin that is formed on the support body. The separation layer of the gas separation membrane has a hydrophilic modification surface on the side opposite to the support body, and the film thickness of the layer constituting the hydrophilic modification surface is 0.1 µm or less. The surface contact angle of the hydrophilic modification surface using water is 60° or less.
(FR)La présente invention concerne une membrane de séparation de gaz comprenant un corps de support et une couche de séparation formée à partir d'une résine sur le corps de support. La couche de séparation de la membrane de séparation de gaz présente une surface de modification hydrophile sur le côté opposé au corps de support, et l'épaisseur de film de la couche constituant la surface de modification hydrophile est inférieure ou égale à 0,1 µm. L'angle de contact superficiel de la surface de modification hydrophile en utilisant l'eau est inférieur ou égal à 60°.
(JA)支持体と該支持体上に形成された樹脂からなる分離層とを具備するガス分離膜であって、前記分離層は前記支持体とは反対側に親水性の改質処理面を有し、該親水性改質処理面を構成する層の膜厚が0.1μm以下であり、前記親水性改質処理面の水を用いた表面接触角が60°以下であるガス分離膜。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)