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1. (WO2013046864) PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION DE SOLUTION AQUEUSE DE PEROXYDE D'HYDROGÈNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/046864    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/067822
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 12.07.2012
CIB :
C01B 15/013 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324 (JP) (Tous Sauf US).
TAJIMA, Nobuo; (US Seulement).
ARAI, Yoshihisa; (US Seulement)
Inventeurs : TAJIMA, Nobuo; .
ARAI, Yoshihisa;
Mandataire : TSUKUNI & ASSOCIATES; KASUMIGASEKI TOKYU Bldg., 3-7-1, Kasumigaseki, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-216637 30.09.2011 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING AQUEOUS HYDROGEN PEROXIDE SOLUTION
(FR) PROCÉDÉ POUR LA PRODUCTION DE SOLUTION AQUEUSE DE PEROXYDE D'HYDROGÈNE
(JA) 過酸化水素水溶液の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a method for producing an aqueous hydrogen peroxide solution, which is capable of efficiently removing impurities such as silicic acid and a silicic acid salt contained in the aqueous hydrogen peroxide solution. A method for producing an aqueous hydrogen peroxide solution of the present invention comprises: a first step wherein an aqueous hydrogen peroxide solution is brought into contact with active alumina that is cleaned with purified water; and a second step wherein the aqueous hydrogen peroxide solution is brought into contact with a cation exchange resin after the first step. The cation exchange resin is preferably a hydrogen ion type strongly acidic cation exchange resin having a sulfonic acid group. The temperature of the aqueous hydrogen peroxide solution brought into contact with the active alumina and the cation exchange resin is preferably 30˚C or less.
(FR)La présente invention a pour objet un procédé pour la production d'une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène, qui permet d'enlever efficacement des impuretés telles que l'acide silicique et un sel de l'acide silicique contenues dans la solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène. Le procédé pour la production d'une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène de la présente invention comprend : une première étape dans laquelle une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène est mise en contact avec de l'alumine active qui est nettoyée avec de l'eau purifiée ; et une seconde étape dans laquelle la solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène est mise en contact avec une résine échangeuse de cations après la première étape. La résine échangeuse de cations est de préférence une résine échangeuse de cations fortement acide de type à ions hydrogène ayant un groupe acide sulfonique. La température de la solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène mise en contact avec l'alumine active et la résine échangeuse de cations est de préférence inférieure ou égale à 30°C.
(JA) 過酸化水素水溶液に含まれるケイ酸やケイ酸塩などの不純物を効果的に除去することのできる過酸化水素水溶液の製造方法を提供することを目的とする。 本発明の過酸化水素水溶液の製造方法は、過酸化水素水溶液を精製水により洗浄した活性アルミナに接触させる第1工程と、前記第1工程の後、前記過酸化水素水溶液をカチオン交換樹脂に接触させる第2工程と、を有している。前記カチオン交換樹脂は、スルホン酸基を有する水素イオン型の強酸性カチオン交換樹脂であることが好ましい。前記活性アルミナ及び前記カチオン交換樹脂に接触させる前記過酸化水素水溶液の温度が30℃以下であることが好ましい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)