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1. (WO2013046836) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUT ET DISPOSITIF D'INSPECTION DE DÉFAUT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/046836    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/066561
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 28.06.2012
CIB :
G01N 21/956 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (Tous Sauf US).
MATSUMOTO Shunichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANIGUCHI Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HONDA Toshifumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIBATA Yukihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
URANO Yuta [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MATSUMOTO Shunichi; (JP).
TANIGUCHI Atsushi; (JP).
HONDA Toshifumi; (JP).
SHIBATA Yukihiro; (JP).
URANO Yuta; (JP)
Mandataire : POLAIRE I.P.C.; 7-1, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-211885 28.09.2011 JP
Titre (EN) DEFECT INSPECTION METHOD AND DEFECT INSPECTION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUT ET DISPOSITIF D'INSPECTION DE DÉFAUT
(JA) 欠陥検査方法および欠陥検査装置
Abrégé : front page image
(EN)A defect inspection method and device for: directing irradiation light at a linear area of a sample that has a pattern formed on a surface thereof and is mounted on a table capable of moving within a plane, the sample being irradiated from an oblique direction relative to the normal; detecting, in a plurality of directions, an image of scattered light given off by the sample irradiated by the irradiation light; processing a signal obtained by the scattered-light image detected; and detecting a defect; wherein the scattered-light image is detected in the plurality of directions through elliptical lenses. The lenses are obtained by cutting off left and right portions of a circular lens at different azimuth angles in the same plane in which the optical axis is perpendicular to a plane formed by the normal to the surface of the table on which the sample is mounted and the longitudinal direction of the linear region irradiated by the irradiation light.
(FR)La présente invention porte sur un procédé et un dispositif d'inspection de défaut pour : diriger une lumière d'irradiation à une zone linéaire d'un échantillon qui a un motif formé sur une surface de celui-ci et est monté sur une table apte à se déplacer dans un plan, l'échantillon étant irradié depuis une direction oblique par rapport à la normale ; détecter, dans une pluralité de directions, une image de lumière diffusée émise par l'échantillon irradié par la lumière d'irradiation ; traiter un signal obtenu par l'image de lumière diffusée détectée ; et détecter un défaut ; l'image de lumière diffusée étant détectée dans la pluralité de directions à travers des lentilles elliptiques. Les lentilles sont obtenues par découpe de parties gauche et droite d'une lentille circulaire à différents angles d'azimut dans le même plan dans lequel l'axe optique est perpendiculaire à un plan formé par la normale à la surface de la table sur laquelle l'échantillon est monté et la direction longitudinale de la région linéaire irradiée par la lumière d'irradiation.
(JA) 平面内で移動可能なテーブルに載置した表面にパターンが形成された試料上の線状の領域に試料の法線方向に対して傾いた方向から照明光を照射し、この照明光が照射された試料から発生した散乱光の像を複数の方向で検出し、この散乱光の像を検出して得た信号を処理して試料上の欠陥を検出する欠陥検査方法及びその装置において、散乱光の像を複数の方向で検出することを、光軸が前記テーブルの前記試料を載置する面の法線と前記照明光を照明する線状の領域の長手方向とが成す面に直交する同一平面内における異なる仰角方向でそれぞれ円形レンズの左右を切除した長円形レンズを介して検出するようにした。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)