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1. (WO2013046585) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRATS EN VERRE POUR DISQUES DURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/046585    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/005872
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 14.09.2012
CIB :
G11B 5/84 (2006.01), C03B 27/012 (2006.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 2-7-5, Naka-Ochiai, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP) (Tous Sauf US).
KAJITA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAE, Hazuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAJITA, Hiroshi; (JP).
NAKAE, Hazuki; (JP)
Mandataire : KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-212473 28.09.2011 JP
Titre (EN) METHOD OF MANUFACTURING GLASS SUBSTRATES FOR HARD DISK DRIVES
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRATS EN VERRE POUR DISQUES DURS
(JA) HDD用ガラス基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)One aspect of the present invention is a method of manufacturing glass substrates for hard disk drives (HDDs) characterized in that, for a glass blank, when the amount of retardation from a cross section is measured while cutting the glass blank in a strip shape in a direction perpendicular to the main surfaces just before a chemical strengthening step, the difference between a first maximum value for the amount of retardation per unit optical path length in a range up to 10 μm from one main surface, and a second maximum value for the amount of retardation per unit optical path length in a range up to 10 μm from the other main surface is not more than 10 nm/mm.
(FR)Un aspect de l'invention concerne un procédé de fabrication de substrats en verre pour disques durs (HDD) caractérisé en ce que, pour une ébauche en verre, lorsque la quantité de retard à partir d'une section transversale est mesurée lors de la découpe de l'ébauche en verre sous forme de bande dans un sens perpendiculaire aux surfaces principales juste avant une étape de trempe chimique, la différence entre une première valeur maximale pour la quantité de retard par longueur de trajet optique unitaire dans une plage allant jusqu'à 10 μm à partir d'une surface principale, et une seconde valeur maximale pour la quantité de retard par longueur de trajet optique unitaire dans une plage allant jusqu'à 10 μm à partir de l'autre surface principale ne dépasse pas 10 nm/mm.
(JA) 本発明の一局面は、化学強化工程の直前におけるガラス素板において、前記ガラス素板を主面と垂直な方向に短冊状に切り出した際の断面からリタデーション量を測定したときに、一方の主面から10μmまでの範囲における単位光路長あたりのリタデーション量の第1最大値と、他方の主面から10μmまでの範囲における単位光路長あたりのリタデーション量の第2最大値との差が、10nm/mm以下であることを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)