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1. (WO2013046576) TAMPON DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT EN VERRE UTILISANT LEDIT TAMPON DE POLISSAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/046576    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/005802
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 12.09.2012
CIB :
B24B 37/26 (2012.01), B24B 1/00 (2006.01), B24B 7/24 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01)
Déposants : HOYA CORPORATION [JP/JP]; 2-7-5, Naka-Ochiai, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP) (Tous Sauf US).
KOMATSU, Takafumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOMATSU, Takafumi; (JP)
Mandataire : KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2011-216401 30.09.2011 JP
Titre (EN) POLISHING PAD AND GLASS SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD USING SAID POLISHING PAD
(FR) TAMPON DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT EN VERRE UTILISANT LEDIT TAMPON DE POLISSAGE
(JA) 研磨パッドおよび該研磨パッドを用いたガラス基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A polishing pad used in a glass substrate mirror-polishing process, characterized in that: the polishing pad has multiple open holes on the main surface that contacts the glass substrate; one open hole and another open hole adjacent thereto are separated by a partition; and of the side surfaces of said partition, an inclined section is provided on the side surface on the side of the other open hole and the inclined section has a minimum radius of curvature 20 - 100 µm. Said polishing pad provides, for example, a polishing pad with which polishing liquid components do not accumulate easily in the open holes while the mirror-finish processing rate is maintained.
(FR)La présente invention se rapporte à un tampon de polissage utilisé dans un processus de polissage-miroir d'un substrat en verre, caractérisé en ce que : le tampon de polissage possède de multiples trous ouverts sur la surface principale qui est en contact avec le substrat en verre ; un premier trou ouvert et un autre trou ouvert adjacent à celui-ci sont séparés par une séparation ; et parmi les surfaces latérales de ladite séparation, une section inclinée se trouve sur la surface latérale sur le côté de l'autre trou ouvert et la section inclinée a un rayon de courbure minimum de 20 à 100 µm. Ledit tampon de polissage procure, par exemple, un tampon de polissage grâce auquel les composants liquides de polissage ne s'accumulent pas facilement dans les trous ouverts tandis que la vitesse de traitement de polissage-miroir est maintenue.
(JA) ガラス基板の鏡面研磨工程において使用される研磨パッドであって、該研磨パッドは、ガラス基板と接触する主表面に複数の開口穴を有し、1の開口穴と該開口穴と隣り合う他の開口穴とは、隔壁により隔てられ、当該隔壁の側面のうち、前記他の開口穴側の側面には、傾斜部が設けられ、該傾斜部は、20~100μmの最小曲率半径を有することを特徴とする研磨パッド。当該研磨パッドによれば、鏡面研磨工程における加工レートを維持しながら、研磨液成分が開口穴に蓄積しにくい研磨パッド等を提供することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)