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1. (WO2013046277) MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2013/046277    N° de la demande internationale :    PCT/JP2011/005525
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 30.09.2011
CIB :
H01J 37/26 (2006.01), H01J 37/295 (2006.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP) (Tous Sauf US).
HARADA, Ken [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HARADA, Ken; (JP)
Mandataire : INOUE, Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ELECTRON MICROSCOPE AND SAMPLE OBSERVATION METHOD
(FR) MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLONS
(JA) 電子顕微鏡および試料観察方法
Abrégé : front page image
(EN)While in-focus sample observation is possible with the Foucault method, which is one of the Lorentz electron microscope methods, it is not possible to obtain information by an electron beam which has leaked in a selection of a specific polarization angle or bearing. Accordingly, in order to obtain information of the electron beam projection region overall, a plurality of observations has been necessary, such as selecting anew an electron beam polarization component and forming an image. With this method, a plurality of adjustments of an optical assembly have been necessary, and even if the information of the projection region overall is obtained, the observations are at temporally different timings, with dynamic or realtime observations being impossible. The present invention projects a single electron beam upon a sample (3) and, using an electron beam bi-prism (9) which is positioned in an electron optical angular space, etc., simultaneously forms images (321, 323) of the sample by electron beams which are separate in polarization for each propagation direction of each respective electron beam, as well as having different locations in the image plane of the electron optic assembly.
(FR)Bien qu'il soit possible de procéder à une observation d'échantillons nette au moyen d'un procédé de Foucault, qui est l'un des procédés de microscope électronique de Lorentz, il n'est pas possible d'obtenir des informations au moyen d'un faisceau électronique qui a fui dans la sélection d'un angle de polarisation spécifique ou palier. Par conséquent, afin d'obtenir des informations de l'ensemble de la région de projection du faisceau électronique, une pluralité d'observations a été nécessaire, telles que la sélection d'un nouveau component de polarisation de faisceau électronique et la formation d'une image. A l'aide de ce procédé, une pluralité d'ajustements d'un ensemble optique a été nécessaire, et même si les informations de l'ensemble de la région de projection sont obtenues, les observations sont faites à des moments différents dans le temps, les observations dynamiques ou en temps réel étant impossibles. La présente invention projette un faisceau électronique unique sur un échantillon (3) et, à l'aide d'un prisme double de faisceau électronique (9) qui est positionné dans un espace angulaire optique d'électrons, etc., forme simultanément des images (321, 323) de l'échantillon par faisceaux électroniques qui sont séparés en termes de polarisation pour chaque direction de propagation de chaque faisceau électronique respectif, et qui sont également dotés de différents emplacements dans le plan de l'image de l'ensemble optique d'électrons.
(JA)ローレンツ電子顕微鏡法の1つであるフーコー法では、インフォーカスでの試料の観察が可能であるが、特定の偏向角度・方位の選択に漏れた電子線による情報は得られない。従って、電子線照射領域全面の情報を得るためには、改めて電子線の偏向成分を選択し直し結像するなど、複数回の観察が必要であった。この方法では複数回の光学系の調整が必要であるだけでなく、照射領域全面の情報を得たとしても時間的に異なるタイミングでの観察であり動的観察や実時間観察は不可能であった。本発明は単一の電子線を試料(3)に照射し、電子光学上の角度空間などに配置した電子線バイプリズム(9)を用いて、それぞれ電子線の伝播方向ごとに偏向を加えて、電子光学系の像面上の異なる位置に、個別かつ同時にそれぞれの電子線による試料の像(321、323)を結像する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)