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1. (WO2013046077) POSITIONNEMENT SÉLECTIF DE NANOTUBES DE CARBONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2013/046077 N° de la demande internationale : PCT/IB2012/054449
Date de publication : 04.04.2013 Date de dépôt international : 30.08.2012
CIB :
C01B 31/02 (2006.01)
Déposants : AFZALI-ARDAKANI, Ali[US/US]; US (UsOnly)
TULEVSKI, George Stojan[US/US]; US (UsOnly)
PARK, Hongsik[KR/US]; US (UsOnly)
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION[US/US]; New Orchard Road Armonk, New York 10504, US (AllExceptUS)
IBM UNITED KINGDOM LIMITED[GB/GB]; PO Box 41, North Harbour Portsmouth Hampshire PO6 3AU, GB (MG)
IBM (CHINA) INVESTMENT COMPANY LIMITED[CN/CN]; 25/F, Pangu Plaza No.27, Central North 4th Ring Road, Chaoyang District Beijing 100101, CN (MG)
Inventeurs : AFZALI-ARDAKANI, Ali; US
TULEVSKI, George Stojan; US
PARK, Hongsik; US
Mandataire : WILLIAMS, Julian; IBM United Kingdom Limited Intellectual Property Law Hursley Park Winchester Hampshire SO21 2JN, GB
Données relatives à la priorité :
13/248,17629.09.2011US
Titre (EN) SELECTIVE PLACEMENT OF CARBON NANOTUBES
(FR) POSITIONNEMENT SÉLECTIF DE NANOTUBES DE CARBONE
Abrégé : front page image
(EN) A method of forming a structure having selectively placed carbon nanotubes, a method of making charged carbon nanotubes, a bi- functional precursor, and a structure having a high density carbon nanotube layer with minimal bundling. Carbon nanotubes are selectively placed on a substrate having two regions. The first region has an isoelectric point exceeding the second region's isoelectric point. The substrate is immersed in a solution of a bi- functional precursor having anchoring and charged ends. The anchoring end bonds to the first region to form a self-assembled monolayer having a charged end. The substrate with charged monolayer is immersed in a solution of carbon nanotubes having an opposite charge to form a carbon nanotube layer on the self-assembled monolayer. The charged carbon nanotubes are made by functionalization or coating with an ionic surfactant.
(FR) Procédé de formation d'une structure possédant des nanotubes de carbone à positionnement sélectif, procédé de fabrication de nanotubes de carbone chargés, précurseur bi-fonctionnel et structure possédant un couche à haute densité de nanotubes de carbone pour un minimum de faisceaux. Des nanotubes de carbone sont positionnés sélectivement sur un substrat possédant deux régions. La première région a un point isoélectrique dépassant le point isoélectrique de la seconde région. Le substrat est immergé dans une solution de précurseur bi-fonctionnel ayant des extrémités d'ancrage et chargées. L'extrémité d'ancrage adhère à une première région et forme ainsi une monocouche auto-assemblée à extrémité chargée. Le substrat avec monocouche chargée est immergé dans une solution de nanotubes de carbone ayant une charge opposée pour former une couche de nanotubes de carbone sur la monocouche auto-assemblée. Les nanotubes de carbone chargés sont obtenus par fonctionnalisation ou par application d'un revêtement de tensioactif ionique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)