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1. (WO2012153050) MEMBRANES NANOSTRUCTUREES ET LEURS UTILISATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2012/153050 N° de la demande internationale : PCT/FR2012/051002
Date de publication : 15.11.2012 Date de dépôt international : 04.05.2012
CIB :
B01D 71/34 (2006.01) ,B01D 67/00 (2006.01) ,G01N 27/333 (2006.01) ,C08J 5/22 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
71
Membranes semi-perméables destinées aux procédés ou aux appareils de séparation, caractérisées par leurs matériaux; Procédés spécialement adaptés à leur fabrication
06
Matériaux organiques
30
Polyhalogénures alcènyliques
32
contenant des atomes de fluor
34
Fluorure de polyvinylidène
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
67
Procédés spécialement adaptés à la fabrication de membranes semi-perméables destinées aux procédés ou aux appareils de séparation
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
27
Recherche ou analyse des matériaux par l'emploi de moyens électriques, électrochimiques ou magnétiques
26
en recherchant des variables électrochimiques; en utilisant l'électrolyse ou l'électrophorèse
28
Composants de cellules électrolytiques
30
Electrodes, p.ex. électrodes pour l'analyse; Demi-cellules
333
Electrodes ou membranes sélectives à l'égard des ions
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
5
Fabrication d'objets ou de matériaux façonnés contenant des substances macromoléculaires
20
Fabrication de structures façonnées de résines échangeuses d'ions
22
Bandes, membranes ou diaphragmes
Déposants :
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25, rue Leblanc Bâtiment « Le Ponant D » F-75015 Paris, FR (AllExceptUS)
ECOLE POLYTECHNIQUE [FR/FR]; Route de Saclay F-91120 Palaiseau, FR (AllExceptUS)
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3, rue Michel Ange F-75016 Paris, FR (AllExceptUS)
CLOCHARD, Marie-Claude [FR/FR]; FR (UsOnly)
WADE, Travis [US/FR]; FR (UsOnly)
BESSBOUSSE, Haad [MA/FR]; FR (UsOnly)
GALLINO, Enrico [IT/FR]; FR (UsOnly)
Inventeurs :
CLOCHARD, Marie-Claude; FR
WADE, Travis; FR
BESSBOUSSE, Haad; FR
GALLINO, Enrico; FR
Mandataire :
DIAS, Sonia; Cabinet Ores 36, rue de St Pétersbourg F-75008 Paris, FR
Données relatives à la priorité :
11 5397709.05.2011FR
Titre (EN) NANOSTRUCTURED MEMBRANES AND USES THEREOF
(FR) MEMBRANES NANOSTRUCTUREES ET LEURS UTILISATIONS
Abrégé :
(EN) The invention relates to a method for producing a nanostructured membrane, comprising the steps of: i) irradiating a polymer substrate with heavy ions such that latent ion tracks are formed through the entire thickness (e) of the polymer substrate; and ii) partially etching said latent tracks so as to obtain a nanostructured membrane comprising nanopores that are less deep (p) than the thickness (e) of the polymer substrate as well as unetched residual latent tracks.
(FR) La présente invention concerne un procédé de préparation d'une membrane nanostructurée, ledit procédé comprenant les étapes de : i) Irradiation aux ions lourds d'un substrat polymère, ce par quoi des traces latentes du passage d'ions à travers toute l'épaisseur (e) du substrat polymère sont formées; et ii) Révélation chimique partielle desdites traces latentes, ce par quoi on obtient une membrane nanostructurée comprenant : - des nanopores dont la profondeur (p) est inférieure à l'épaisseur du substrat polymère (e); - des traces latentes résiduelles non révélées.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)
Also published as:
EP2707126