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1. WO2012018366 - SYSTÈMES, PROCÉDÉS ET APPAREIL POUR COMMANDE DE SOURCES DE PLASMA SÉPARÉES

Numéro de publication WO/2012/018366
Date de publication 09.02.2012
N° de la demande internationale PCT/US2011/001175
Date du dépôt international 30.06.2011
CIB
C23F 1/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
FENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
CPC
H01J 2237/334
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
32Processing objects by plasma generation
33characterised by the type of processing
334Etching
H01J 37/32422
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32422Arrangement for selecting ions or species in the plasma
H01J 37/32449
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3244Gas supply means
32449Gas control, e.g. control of the gas flow
H01J 37/3266
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3266Magnetic control means
H01J 37/32669
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3266Magnetic control means
32669Particular magnets or magnet arrangements for controlling the discharge
H01J 37/32816
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32798Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
32816Pressure
Déposants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US]/[US] (AllExceptUS)
  • SHAJII, Ali [US]/[US] (UsOnly)
  • GOTTSCHO, Richard [US]/[US] (UsOnly)
  • BENZERROUK, Souheil [US]/[US] (UsOnly)
  • COWE, Andrew [GB]/[US] (UsOnly)
  • NAGARKATTI, Siddharth, P. [US]/[US] (UsOnly)
  • ENTLEY, William, R. [US]/[US] (UsOnly)
Inventeurs
  • SHAJII, Ali
  • GOTTSCHO, Richard
  • BENZERROUK, Souheil
  • COWE, Andrew
  • NAGARKATTI, Siddharth, P.
  • ENTLEY, William, R.
Mandataires
  • LEAVELL, George, B.
Données relatives à la priorité
12/852,36406.08.2010US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SYSTEMS, METHODS AND APPARATUS FOR SEPARATE PLASMA SOURCE CONTROL
(FR) SYSTÈMES, PROCÉDÉS ET APPAREIL POUR COMMANDE DE SOURCES DE PLASMA SÉPARÉES
Abrégé
(EN)
A plasma source includes multiple ring plasma chambers, multiple primary windings, multiple ferrites and a control system. Each one of the primary windings is wrapped around an exterior one of the ring plasma chambers. Each one of the plurality of the ring plasma chamber passes through a respective portion of the plurality of ferrites. The control system is coupled to each of the ring plasma chambers. A system and method for generating and using a plasma are also described.
(FR)
L'invention concerne une source de plasma comprenant de multiples chambres de plasma annulaire, de multiples enroulements primaires, de multiples ferrites et un système de commande. Chacun des enroulements primaires est est enroulé autour d'une chambre extérieure des chambres de plasma annulaire. Chacune des chambres de la pluralité des chambres de plasma annulaire traverse une partie respective de la pluralité de ferrites. Le système de commande est couplé à chacune des chambres de plasma annulaire. L'invention concerne également un système et un procédé pour générer et utiliser un plasma.
Également publié en tant que
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