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Paramétrages

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1. WO2012012267 - ALIGNEMENT DE FOCALISATION DE SOURCE LUMINEUSE

Numéro de publication WO/2012/012267
Date de publication 26.01.2012
N° de la demande internationale PCT/US2011/044058
Date du dépôt international 14.07.2011
CIB
A61N 5/06 2006.01
ANÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
NÉLECTROTHÉRAPIE; MAGNÉTOTHÉRAPIE; THÉRAPIE PAR RADIATIONS; THÉRAPIE PAR ULTRASONS
5Thérapie par radiations
06utilisant un rayonnement lumineux
CPC
G01B 11/0608
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
02for measuring length, width or thickness
06for measuring thickness, e.g. of sheet material
0608Height gauges
G01B 11/26
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
26for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
H05G 2/003
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
H05G 2/005
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
005containing a metal as principal radiation generating component
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
Déposants
  • CYMER, INC. [US/US]; (a Nevada Corporation) 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413, US (AllExceptUS)
  • GRAHAM, Matthew, R. [US/US]; US (UsOnly)
  • PARTLO, William, N. [US/US]; US (UsOnly)
  • CHANG, Steven [US/US]; US (UsOnly)
  • BERGSTEDT, Robert, A. [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • GRAHAM, Matthew, R.; US
  • PARTLO, William, N.; US
  • CHANG, Steven; US
  • BERGSTEDT, Robert, A.; US
Mandataires
  • NGUYEN, Joseph, A.; Cymer, Inc. Legal Dept., MS/4-2D 17075 Thornmint Court San Diego, CA 92127-2413, US
Données relatives à la priorité
12/841,72822.07.2010US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ALIGNMENT OF LIGHT SOURCE FOCUS
(FR) ALIGNEMENT DE FOCALISATION DE SOURCE LUMINEUSE
Abrégé
(EN)
An extreme ultraviolet light system includes a steering system that steers and focuses an amplified light beam traveling along a propagation direction to a focal plane near a target location within an extreme ultraviolet light chamber, a detection system including at least one detector positioned to detect an image of a laser beam reflected from at least a portion of a target material within the chamber,, a wavefront modification system in the path of the reflected laser beam and between, the target location- and the detection system, and a controller. The -wavefront modification system is configured to modify the wavefront of the reflected laser beam as a function of a target focal plane position along the propagation direction. The controller includes logic for adjusting a location o f the focal plane of the amplified light' beam relative to the target material based on the detected image of the reflected laser beam,
(FR)
Système de lumière dans l'ultraviolet extrême comprenant : un système de direction qui dirige et concentre un faisceau lumineux amplifié se déplaçant dans une direction de propagation sur un plan focal proche d'un emplacement cible à l'intérieur d'une chambre pour lumière dans l'ultraviolet extrême; un système de détection comprenant au moins un détecteur positionné pour détecter une image d'un faisceau laser réfléchi par au moins une partie d'un matériau cible dans la chambre; un système de modification de front d'onde dans la trajectoire du faisceau laser réfléchi ainsi qu'entre l'emplacement cible et le système de détection; et une unité de commande. Le système de modification de front d'onde est conçu pour modifier le front d'onde du faisceau laser réfléchi en tant que fonction de la position d'un plan focal cible dans la direction de propagation. L'unité de commande comprend une logique permettant de régler un point du plan focal du faisceau lumineux amplifié par rapport au matériau cible sur la base de l'image détectée du faisceau laser réfléchi.
Également publié en tant que
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