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1. WO2012011605 - ÉLÉMENT D'IMMERSION DANS UN LIQUIDE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE

Numéro de publication WO/2012/011605
Date de publication 26.01.2012
N° de la demande internationale PCT/JP2011/067015
Date du dépôt international 20.07.2011
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
G03F 7/70925
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution, removing pollutants from apparatus; electromagnetic and electrostatic-charge pollution
70925Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants
Déposants
  • NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
  • HOSHINO Tadashi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • TANAKA Ryo [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • HOSHINO Tadashi; JP
  • TANAKA Ryo; JP
Mandataires
  • SHIGA Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620, JP
Données relatives à la priorité
13/184,25115.07.2011US
61/367,04423.07.2010US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LIQUID IMMERSION MEMBER AND CLEANING METHOD
(FR) ÉLÉMENT D'IMMERSION DANS UN LIQUIDE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE
Abrégé
(EN)
A liquid immersion member ( 3 ) in an immersion exposure apparatus (EX), which exposes a substrate (P) with exposure light (EL) which transits an exposure liquid (LQ), has a first recovery port (18), which is capable of recovering the exposure liquid and that is disposed at least partly around an optical member (8) and an optical path (K) of the exposure light that passes through the exposure liquid between the optical member and the substrate. A cleaning method of cleaning the liquid immersion member comprises: supplying a cleaning liquid (LC) to a recovery passageway (19) of the liquid immersion member, wherethrough the exposure liquid recovered via the first recovery port from a space, which the first recovery port faces, flows. The liquid immersion member has a first discharge port (21), which is for discharging the exposure liquid from the recovery passageway, and a second discharge port (22), which is for discharging a gas from the recovery passageway and hinders the discharge of the exposure liquid more than the first discharge port does.
(FR)
L'invention concerne un élément d'immersion dans un liquide ( 3 ) d'appareil d'exposition par immersion (EX), qui expose un substrat (P) à une lumière d'exposition (EL) traversant un liquide d'exposition (LQ), qui comprend un premier orifice de récupération (18) capable de récupérer le liquide d'exposition et entourant au moins partiellement un élément optique, (8) et un chemin optique (K) de lumière d'exposition traversant le liquide d'exposition entre l'élément optique et le substrat. Le procédé de nettoyage de l'élément d'immersion dans un liquide consiste : à alimenter en liquide de nettoyage (LC) un passage de récupération (19) de l'élément d'immersion dans un liquide, par lequel le liquide d'exposition récupéré via le premier orifice de récupération à partir d'un espace qui lui fait face, s'écoule. L'élément d'immersion dans un liquide comprend un premier orifice de récupération (21) destiné à évacuer le liquide d'exposition provenant du passage de récupération, et un second orifice d'évacuation (22) destiné à évacuer un gaz provenant du passage de récupération et empêchant plus l'évacuation du liquide d'exposition que le premier orifice de décharge.
Également publié en tant que
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