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Paramétrages

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1. WO2012008632 - PROCÉDÉ POUR FABRIQUER DES FILMS À NANOFILS MÉTALLIQUES ALIGNÉS PAR UN PROCÉDÉ DE TENSION

Numéro de publication WO/2012/008632
Date de publication 19.01.2012
N° de la demande internationale PCT/KR2010/004618
Date du dépôt international 15.07.2010
CIB
B82B 3/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82NANOTECHNOLOGIE
BNANOSTRUCTURES FORMÉES PAR MANIPULATION D’ATOMES, DE MOLÉCULES OU D’ENSEMBLES LIMITÉS D’ATOMES OU DE MOLÉCULES UN À UN COMME DES UNITÉS INDIVIDUELLES; LEUR FABRICATION OU LEUR TRAITEMENT
3Fabrication ou traitement des nanostructures par manipulation d’atomes ou de molécules, ou d’ensembles limités d’atomes ou de molécules un à un comme des unités individuelles
B29C 55/04 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
CFAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES MATIÈRES À L'ÉTAT PLASTIQUE NON PRÉVU AILLEURS; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
55Façonnage par étirage, p.ex. étirage à travers une matrice; Appareils à cet effet
02de plaques ou de feuilles
04suivant un seul axe, p.ex. étirage oblique
B29D 7/01 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
DFABRICATION D'OBJETS PARTICULIERS, À PARTIR DE MATIÈRES PLASTIQUES OU DE SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE
7Fabrication d'objets plats, p.ex. pellicules ou feuilles
01Pellicules ou feuilles
CPC
B82B 3/0066
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
3Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
0061Methods for manipulating nanostructures
0066Orienting nanostructures
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
G01N 21/554
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
55Specular reflectivity
552Attenuated total reflection
553and using surface plasmons
554detecting the surface plasmon resonance of nanostructured metals, e.g. localised surface plasmon resonance
G01N 21/658
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
63optically excited
65Raman scattering
658enhancement Raman, e.g. surface plasmons
Déposants
  • 부산대학교 산학협력단 PUSAN NATIONAL UNIVERSITY INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION [KR/KR]; 부산 금정구 장전동 산 30 부산대학교 Pusan National University, San 30, Jangjeon-dong, Geumjeong-gu Pusan 609-735, KR (AllExceptUS)
  • 이재범 LEE, Jae beom [KR/KR]; KR (UsOnly)
  • 이재욱 LEE, Jae wook [KR/KR]; KR (UsOnly)
  • 손방방 SUN, Fang fang [CN/KR]; KR (UsOnly)
Inventeurs
  • 이재범 LEE, Jae beom; KR
  • 이재욱 LEE, Jae wook; KR
  • 손방방 SUN, Fang fang; KR
Mandataires
  • 김순웅 KIM, Soon Woong; 서울 구로구 구로동 197-22 번지 에이스테크노타워 5차 601호 601 Ace Techno Tower 5 Cha 197-22, Guro-dong, Guro-gu Seoul 152-766, KR
Données relatives à la priorité
Langue de publication coréen (KO)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR MANUFACTURING METAL NANOWIRE FILMS ALIGNED BY TENSION METHOD
(FR) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER DES FILMS À NANOFILS MÉTALLIQUES ALIGNÉS PAR UN PROCÉDÉ DE TENSION
(KO) 인장방법에 의한 정렬된 금속나노선 필름 제조방법
Abrégé
(EN)
The present invention relates to a method for manufacturing metal nanowire films, and more particularly, to a method for manufacturing metal nanowire films aligned by a tension method in which metal nanowires are synthesized using a chemical wet synthesis method to manufacture a metal polymer film and then the metal polymer is extended to align metal nanowires within the metal polymer film in one direction, thereby manufacturing metal nanowire films at low costs. The aligned Ag nanowire films may be utilized for fine circuits, nanowire-grid polarizers, nano photonic crystals, and nano photonic wave guides. In addition, the Ag nanowire films may be applied and utilized as a substrate for improving an S/N ratio of a Raman spectroscopy, surface Plasmon spectroscopy, or atomic force microscope.
(FR)
La présente invention porte sur un procédé pour fabriquer des films à nanofils métalliques, et, plus particulièrement, sur un procédé pour fabriquer des films à nanofils métalliques alignés par un procédé de tension, dans lequel procédé des nanofils métalliques sont synthétisés à l'aide d'un procédé de synthèse chimique humide afin de fabriquer un film métal-polymère, après quoi le métal-polymère est étendu de façon à aligner les nanofils métalliques à l'intérieur du film métal-polymère dans une direction, de façon à fabriquer ainsi des films à nanofils métalliques à de faibles coûts. Les films à nanofils en Ag alignés peuvent être utilisés pour des circuits fins, des polariseurs à grille de nanofils, des nano-cristaux photoniques, et des nanoguides d'ondes photoniques. En outre, les films à nanofils en Ag peuvent être appliqués et utilisés comme substrat pour améliorer un rapport signal/bruit d'une spectroscopie Raman, d'une spectroscopie à plasmon de surface, ou d'un microscope à forces atomiques.
(KO)
본 발명은 금속나노선 필름의 제조방법에 관한 것으로, 화학적인 습식합성법을 이용해 금속나노선(Metal nanowires)을 합성하고, 금속고분자 필름을 제작하여 이를 인장하여 금속고분자 필름 내의 금속나노선을 한 방향으로 정렬시켜 간단하면서도 저비용으로 금속나노선 필름을 제작할 수 있는 인장방법에 의한 정렬된 금속나노선 필름 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 정렬된 은나노선 필름은 초고집적 장치(device)의 미세회로, 나노선-그리드 편극기, 나노 광결정, 나노 광웨이브 가이드 등에 활용 가능하며 정렬된 은나선선 필름은 라만 분광기 및 표면플라즈몬 분광기, 원자힘 현미경의 S/N 비를 높이기 위한 기판으로 응용 및 활용 가능한 효과가 있다.
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