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1. (WO2012008326) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GABARIT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ORIENTÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE LAME DE RETARD, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE
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N° de publication : WO/2012/008326 N° de la demande internationale : PCT/JP2011/065318
Date de publication : 19.01.2012 Date de dépôt international : 05.07.2011
CIB :
G02B 5/30 (2006.01) ,B23K 26/00 (2006.01) ,B23K 26/06 (2006.01) ,G02F 1/13363 (2006.01) ,G02F 1/1337 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
30
Eléments polarisants
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23
MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
K
BRASAGE OU DÉBRASAGE; SOUDAGE; REVÊTEMENT OU PLACAGE PAR BRASAGE OU SOUDAGE; DÉCOUPAGE PAR CHAUFFAGE LOCALISÉ, p.ex. DÉCOUPAGE AU CHALUMEAU; TRAVAIL PAR RAYON LASER
26
Travail par rayon laser, p.ex. soudage, découpage, perçage
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23
MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
K
BRASAGE OU DÉBRASAGE; SOUDAGE; REVÊTEMENT OU PLACAGE PAR BRASAGE OU SOUDAGE; DÉCOUPAGE PAR CHAUFFAGE LOCALISÉ, p.ex. DÉCOUPAGE AU CHALUMEAU; TRAVAIL PAR RAYON LASER
26
Travail par rayon laser, p.ex. soudage, découpage, perçage
02
Mise en place ou surveillance des pièces, p.ex. par rapport au point d'impact; Alignement, pointage ou focalisation du faisceau laser
06
Détermination de la configuration du faisceau, p.ex. à l'aide de masques, ou de foyers multiples
[IPC code unknown for ERROR Code IPC incorrect: sous-groupe non valide (0=>999999)!]
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333
Dispositions relatives à la structure
1337
Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p.ex. par des couches d'alignement
Déposants :
デクセリアルズ株式会社 Dexerials Corporation [JP/JP]; 東京都品川区大崎一丁目11番2号 ゲートシティ大崎イーストタワー8階 Gate City Osaki East Tower 8F., 1-11-2, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032, JP (AllExceptUS)
星 光成 HOSHI Mitsunari [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
星 光成 HOSHI Mitsunari; JP
Mandataire :
特許業務法人 田治米国際特許事務所 TAJIME & TAJIME; 神奈川県川崎市多摩区三田1-26-28 ニューウェル生田ビル201号室 Room No. 201, New-Well-Ikuta Bldg., 26-28, Mita 1-chome, Tama-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2140034, JP
Données relatives à la priorité :
2010-15780612.07.2010JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING A MASTER PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING AN ORIENTED FILM, METHOD FOR MANUFACTURING A RETARDATION PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING A DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN GABARIT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM ORIENTÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE LAME DE RETARD, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 原盤の製造方法、配向膜の製造方法、位相差板の製造方法および表示装置の製造方法
Abrégé :
(EN) Disclosed are: a method for manufacturing an oriented film whereby a non-oriented thin-film layer can be omitted; a method for manufacturing a master plate that can be used in the manufacture of such an oriented film; a method for manufacturing a retardation plate using such an oriented film; and a method for manufacturing a display device provided with a retardation plate using such an oriented film. A mold (210) is irradiated and scanned by femtosecond laser light with a fluence of 0.04-0.12 J/cm², a repetition frequency of 1000 Hz, and a wavelength of 800 nm. Since this forms a mold (210) that is textured with a pitch of at most half the wavelength of the laser light (i.e., at most 400 nm), said mold (210) can be used to manufacture a substrate (11) (oriented film) that is textured with a pitch of at most half the wavelength of the laser light (i.e., at most 400 nm).
(FR) L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un film orienté, dans lequel une couche à film mince non orienté peut être omise; sur un procédé de fabrication d'un gabarit pouvant être utilisé pour la fabrication d'un tel film orienté; sur un procédé de fabrication d'une lame de retard utilisant un tel film orienté; et sur un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage pourvu d'une lame de retard utilisant un tel film orienté. Un moule (210) est irradié et balayé par une lumière laser femtoseconde ayant une fluence de 0,04-0,12 J/cm², une fréquence de répétition de 1000 Hz et une longueur d'onde de 800 nm. Comme cela forme un moule (210), qui est texturé avec un pas au plus égal à la moitié de la longueur d'onde de la lumière laser (c'est-à-dire au plus 400 nm), ledit moule (210) pouvant être utilisé pour fabriquer un substrat (11) (film orienté), qui est texturé avec un pas au plus égal à la moitié de la longueur d'onde de la lumière laser (c'est-à-dire au plus 400 nm).
(JA)  無配向薄膜層を省略することの可能な配向膜配向膜の製造方法、そのような配向膜の製造に使用可能な原盤の製造方法、そのような配向膜を用いた位相差板の製造方法、およびそのような配向膜を用いた位相差板を備えた表示装置の製造方法を提供する。0.04J/cm2以上0.12J/cm2以下のフルエンスのフェムト秒レーザ光を1000Hzの繰り返し周波数、波長800nmで型210に照射しつつ、走査する。これにより、レーザ光の波長の半分以下(400nm以下)のピッチの凹凸を有する型210が形成されるので、この型210を用いることにより、レーザ光の波長の半分以下(400nm以下)のピッチの凹凸を有する基板11(配向膜)を製造することができる。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)
Also published as:
US20130089662JPWO2012008326KR1020130129887