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Paramétrages

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1. WO2012008277 - PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PELLICULE PERMÉABLE AU GAZ, PELLICULE PERMÉABLE AU GAZ ET TRANSDUCTEUR PHOTOÉLECTRIQUE ORGANIQUE

Numéro de publication WO/2012/008277
Date de publication 19.01.2012
N° de la demande internationale PCT/JP2011/064376
Date du dépôt international 23.06.2011
CIB
B05D 7/24 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
7Procédés, autres que le flocage, spécialement adaptés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides, à des surfaces particulières, ou pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides particuliers
24pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides particuliers
B05D 3/06 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
DPROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
3Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
06par exposition à des rayonnements
B32B 9/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
9Produits stratifiés composés essentiellement d'une substance particulière non couverte par les groupes B32B11/-B32B29/155
B32B 27/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
H01L 31/04 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
31Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails
04adaptés comme dispositifs de conversion photovoltaïque
H01L 51/42 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
42spécialement adaptés pour détecter les rayons infrarouges, la lumière, le rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou le rayonnement corpusculaire; spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement
CPC
B05D 2252/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
2252Sheets
02of indefinite length
B05D 3/067
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
3Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
06by exposure to radiation
061using U.V.
065After-treatment
067Curing or cross-linking the coating
B05D 7/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
7Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
02to macromolecular substances, e.g. rubber
04to surfaces of films or sheets
C23C 18/122
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
02by thermal decomposition
12characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
1204inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
122Inorganic polymers, e.g. silanes, polysilazanes, polysiloxanes
C23C 18/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
14Decomposition by irradiation, e.g. photolysis, particle radiation ; or by mixed irradiation sources
C23C 18/143
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
14Decomposition by irradiation, e.g. photolysis, particle radiation ; or by mixed irradiation sources
143Radiation by light, e.g. photolysis or pyrolysis
Déposants
  • コニカミノルタホールディングス株式会社 Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番1号 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP (AllExceptUS)
  • 森 孝博 MORI Takahiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 森 孝博 MORI Takahiro; JP
Données relatives à la priorité
2010-15946414.07.2010JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) GAS BARRIER FILM PRODUCTION METHOD, GAS BARRIER FILM, AND ORGANIC PHOTOELECTRIC TRANSDUCER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PELLICULE PERMÉABLE AU GAZ, PELLICULE PERMÉABLE AU GAZ ET TRANSDUCTEUR PHOTOÉLECTRIQUE ORGANIQUE
(JA) ガスバリアフィルムの製造方法、ガスバリアフィルムおよび有機光電変換素子
Abrégé
(EN)
Disclosed is a gas barrier film production method comprising: a coating step in which an application liquid containing a polysilazane compound is applied on a substrate to form a coating film; and an ultraviolet irradiation step in which the substrate is moved relative to a light source, and vacuum ultraviolet light is applied to the coating film, thereby forming a gas barrier layer. In the ultraviolet irradiation step, the illuminance of the vacuum ultraviolet light received by the coating film on the coating film surface is not more than 160 mW/cm2, and the amount of energy of the vacuum ultraviolet light on the coating film surface received during an interval (T), in which the illuminance of the vacuum ultraviolet light on the coating film surface is between 50 mW/cm2 and 160 mW/cm2, is between 180 mJ/cm2 and 1800 mJ/cm2. The gas barrier film production method is suitable for the roll-to-roll production method, and enables gas barrier films to be produced with excellent productivity, and excellent gas barrier performance.
(FR)
L'invention porte sur un procédé de fabrication de pellicule perméable au gaz, lequel procédé comprend : une étape de revêtement dans laquelle un liquide d'application contenant un composé de polysilazane est appliqué sur un substrat pour former une pellicule protectrice; et une étape d'irradiation aux ultraviolets dans laquelle le substrat est déplacé par rapport à une source de lumière, et dans laquelle une lumière ultraviolette du vide est appliquée sur la pellicule protectrice, permettant ainsi de former une couche perméable au gaz. Dans l'étape d'irradiation aux ultraviolets, l'éclairage de la lumière ultraviolette du vide reçu par la pellicule protectrice sur la surface de pellicule protectrice n'est pas supérieur à 160 mW/cm2, et la quantité d'énergie de la lumière ultraviolette du vide sur la surface de pellicule protectrice reçue pendant un intervalle (T), dans lequel l'éclairage de la lumière ultraviolette du vide sur la surface de pellicule protectrice est entre 50 mW/cm2 et 160 mW/cm2, est entre 180 mJ/cm2 et 1800 mJ/cm2. Le procédé de fabrication de pellicule perméable au gaz est approprié pour le procédé de fabrication rouleau à rouleau, et permet à des pellicules perméables au gaz d'être fabriquées avec une excellente productivité et d'excellentes performances en termes de perméabilité au gaz.
(JA)
 本発明は、基材上にポリシラザン化合物を含有する塗布液を塗布して塗膜を形成する塗布工程および、基材を光源に対して相対的に移動させ、真空紫外線を塗膜に照射して、ガスバリア性層を形成する紫外線照射工程を有し、紫外線照射工程において、塗膜が受ける塗膜面での真空紫外線の照度は160mW/cm以下であり、塗膜面での真空紫外線の照度が50mW/cm以上、160mW/cm以下である期間Tを有し、期間T内に受ける、塗膜面における真空紫外線のエネルギー量が、180mJ/cm以上1800mJ/cm以下であるガスバリアフィルムの製造方法であり、ロール・トゥー・ロール方式の生産適性を有し、生産性に優れ、ガスバリア性能に優れるガスバリアフィルムを製造することができるガスバリアフィルムの製造方法が提供できる。
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